PECVD 흑연 보트

우수한 열 균일성과 내화학성을 갖춘 Semicorex PECVD 흑연 보트는 고온 반도체 처리에서 필름 증착 일관성을 최적화합니다. Semicorex는 엄격한 품질 보증과 신뢰성을 요구하는 글로벌 고객에게 맞춤형 고성능 반도체 부품을 제공합니다.*

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제품 설명

세미코렉스PECVD 흑연 보트플라즈마 강화 화학 기상 증착 시스템용으로 설계된 필수 고순도 고정 장치로, 반도체 장치 제조 및 광전지 제조에 널리 사용됩니다. 고밀도 등방성 흑연으로 제작되었으며 종종 보호용 CVD-SiC(화학 기상 증착 실리콘 카바이드) 코팅으로 강화된 이 보트는 탁월한 열 전도성, 반응성 공정 가스에 대한 우수한 저항성 및 최소한의 입자 생성을 제공합니다. 증착 구역 전체에 걸쳐 균일한 온도 분포를 유지함으로써,PECVD 흑연 보트박막층의 우수한 막 두께 균일성과 전기적 특성 안정성을 보장합니다. 이 고급 소재 구성은 금속 불순물이 웨이퍼 기판으로 확산되는 것을 방지하여 까다로운 생산 환경에서 장치 수율과 장기적인 작동 신뢰성을 크게 향상시킵니다.

고급 재료 과학 및 정밀 CNC 가공을 통해 이러한 특수 구성 요소는 중요한 마이크로 전자 제품 생산 라인에서 유지 관리 빈도와 가동 중지 시간을 최소화합니다.

1. 박막 증착에서 PECVD 흑연 보트의 핵심 역할

플라즈마 강화 화학 기상 증착(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition)은 저압 반응성 가스 환경에서 기판을 배치하고 지지하기 위해 안정적인 캐리어 고정 장치에 크게 의존합니다. 캐리어의 설계는 반응 챔버 내부의 플라즈마 결합 및 가스 흐름 역학에 직접적인 영향을 미칩니다.

당사의 엔지니어링 솔루션은 정확한 웨이퍼 간격과 안전한 유지를 보장하고, 가장자리 배제 영역을 줄이고 고속 가스 퍼지 중에 기판 변위를 방지합니다. 게다가, 우리의 뛰어난 화학적 불활성은탄화규소(SiC)표면 보호 층은 공격적인 불소 또는 염소 기반 세척 플라즈마로부터 기본 흑연 매트릭스를 보호하여 구성 요소 수명을 크게 연장합니다.

2. 재료 특성 및 기술 사양

현대 제조 시설의 엄격한 순도 요구 사항을 충족하기 위해 Semicorex는 모든 제품을 제조합니다.PECVD 흑연 보트초순수를 사용하는 유닛흑연 원료회분 함량이 5ppm 미만으로 감소되었습니다.

재료 특성	일반적인 사양	운영상의 이점
기본 재료	미세한 입자등방성 흑연	높은 기계적 강도와 열 충격 저항.
코팅 유형	맞춤형, CVD SiC	가스 투과성 및 화학적 공격에 대한 완벽한 밀봉.
벌크 밀도	> 1.85g/cm³	다공성이 낮고 구조적 무결성이 향상되었습니다.
열팽창 계수	4.5 x 10⁻⁶ /K(20-1000°C)	빠른 사이클링 시 뒤틀림 및 열 피로를 방지합니다.
요소 순도	> 99.999% (고순도 등급)	필름 성장 중 교차 오염 위험을 제거합니다.