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본질적인 실리콘

2025-02-26

본질적인 실리콘불순물이없는 순수한 실리콘을 말합니다. 주로 전자 장치에서 절연 층 또는 특정 기능 층을 제조하는 데 사용됩니다. 실온에서, 고유 실리콘은 높은 저항력을 가지지 만, 온도가 높거나 불순물 농도가 높거나 빛의 존재에서 반도체처럼 작동합니다. 이 행동은 전도성 전자와 구멍의 생성에서 비롯됩니다.


고유 실리콘은 통합 회로, 태양 전지, LED 및 기타 응용 분야에서 널리 사용되는 기본 재료입니다. 그것의 외부 전자 구조는 다양한 원소의 구조와 유사하므로 도핑 공정 동안 화학적으로 반응성이 있으며, 이는 합금 또는 불순물 에너지 수준의 형성으로 이어진다. 이러한 반응성은 고유 실리콘에 다른 요소를 추가하고 화학 반응을 촉진함으로써 전기를 전도하지 않는 재료를 생성 할 수있게한다.


칩 제조에서 도핑은 특정 장치 기능을 수행하기 위해 고유 실리콘의 전도성 특성을 수정하는 데 사용됩니다. 도핑을 통해, 고유 실리콘은 N- 타입 또는 P 형 반도체로 변환 될 수있다. N- 타입 반도체는 전자를 다수의 운반체로서 특성화하는 반면, P 형 반도체는 다수의 운반체로 구멍을 갖는다. 이 두 가지 유형의 반도체 사이의 전도도 차이는 도핑 된 재료에 의해 결정되는 다양한 농도의 전자 및 구멍에서 발생합니다.


P- 타입 및 N 형 반도체가 연결되면, PN 접합부가 형성되어 전자 및 구멍의 분리 및 이동이 가능하다. 이 상호 작용은 전자 장치에서 기능을 전환하고 증폭시키는 데 기본입니다. N- 타입 반도체가 P 형 반도체와 접촉 할 때, N- 영역의 자유 전자는 구멍을 채우고 구멍을 채우고 P에서 N으로 확장되는 내장 전기장을 생성한다. 이 전기장은 추가 전자 확산을 억제합니다.


순방향 바이어스 전압이 적용될 때, 전류는 P 측에서 N- 사이드로 흐릅니다. 반대로, 역 바이어스되면 전류의 흐름이 거의 완전히 차단됩니다. 이 원칙은 다이오드의 기능의 기초가됩니다.



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