가스 유입 링은 웨이퍼 가장자리와 주변을 덮는 데 사용되어 중요한 챔버 구성 요소를 보호하여 깨끗하고 불활성이며 보호된 환경을 만들고 증착 챔버에서 유효 수명을 연장하므로 증착 또는 웨이퍼 처리 중에 플라즈마 및 고온에 노출됩니다. , 따라서 강력한 플라즈마 내구성과 고순도는 최종 웨이퍼 수율에 매우 중요합니다.
Semicorex CVD SiC 코팅 링은 이러한 까다로운 에피택시 장비 응용 분야를 위해 특별히 제작되었습니다.
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