중국 세라믹 제조업체, 공급업체, 공장

Semicorex는 반도체 공정 개선을 위한 파트너입니다. 당사의 탄화규소 코팅은 조밀하고 고온이며 내화학성이 있어 반도체 웨이퍼 및 웨이퍼 가공, 반도체 제조를 포함한 반도체 제조의 전체 주기에 자주 사용됩니다.

고순도 SiC 세라믹 부품은 반도체 공정에 매우 중요합니다. 당사의 제품은 실리콘 카바이드 웨이퍼 보트, 캔틸레버 패들, 튜브 등과 같은 웨이퍼 처리 장비용 소모품 부품부터 Epitaxy 또는 MOCVD용까지 다양합니다.

반도체 공정의 장점

에피택시나 MOCVD와 같은 박막 증착 단계나 에칭이나 이온 주입과 같은 웨이퍼 처리 공정에서는 고온과 혹독한 화학적 세척을 견뎌야 합니다. Semicorex는 고순도 탄화규소(SiC) 구조를 공급하여 우수한 내열성과 내구성 있는 내화학성을 제공하며 균일한 열 균일성을 제공하여 일관된 에피층 두께와 저항성을 제공합니다.

챔버 뚜껑 →
결정 성장 및 웨이퍼 처리 공정에 사용되는 챔버 뚜껑은 고온과 혹독한 화학적 세척을 견뎌야 합니다.

캔틸레버 패들 →
캔틸레버 패들은 반도체 제조 공정, 특히 확산 및 RTP와 같은 공정 중 확산 또는 LPCVD로에서 사용되는 중요한 구성 요소입니다.

프로세스 튜브 →
Process Tube는 RTP, Diffusion 등 다양한 반도체 처리 응용 분야에 특별히 설계된 중요한 구성 요소입니다.

웨이퍼 보트 →
웨이퍼 보트는 반도체 공정에 사용되며 중요한 생산 단계에서 섬세한 웨이퍼가 안전하게 유지되도록 세심하게 설계되었습니다.

입구 링 →
MOCVD 장비에 의한 SiC 코팅 가스 유입 링 복합 성장은 내열성과 내식성이 뛰어나 극한 환경에서도 안정성이 뛰어납니다.

초점 링 →
Semicorex는 탄화 규소 코팅 초점 링을 공급하여 RTA, RTP 또는 가혹한 화학 세척에 매우 안정적입니다.

웨이퍼 척 →
Semicorex 초평탄 세라믹 진공 웨이퍼 척은 웨이퍼 핸들링 공정에 사용되는 고순도 SiC 코팅입니다.

세미코렉스는 또한 알루미나(Al2O3), 실리콘 질화물(Si3N4), 알루미늄 질화물(AIN), 지르코니아(ZrO2), 복합 세라믹 등의 세라믹 제품도 보유하고 있습니다.