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PSS 에칭용 에칭 캐리어 홀더

PSS 에칭용 에칭 캐리어 홀더

Semicorex의 PSS 에칭용 에칭 캐리어 홀더는 가장 까다로운 에피택시 장비 응용 분야를 위해 설계되었습니다. 당사의 초순수 흑연 캐리어는 열악한 환경, 고온 및 가혹한 화학 세척을 견딜 수 있습니다. SiC 코팅 캐리어는 우수한 열 분포 특성, 높은 열전도율을 가지며 비용 효율적입니다. 당사의 제품은 많은 유럽 및 미국 시장에서 널리 사용되고 있으며 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 기대합니다.

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제품 설명

Semicorex는 에피택셜 성장 및 웨이퍼 처리 공정에 필요한 열악한 환경을 위해 특별히 PSS 에칭용 에칭 캐리어 홀더를 설계했습니다. 당사의 초고순도 흑연 캐리어는 MOCVD, 에피택시 서셉터, 팬케이크 또는 위성 플랫폼, 에칭과 같은 웨이퍼 처리 공정과 같은 박막 증착 단계에 이상적입니다. SiC 코팅 캐리어는 내열성 및 내식성이 우수하고 열 분포 특성이 우수하며 열전도율이 높습니다. 당사의 제품은 비용 효율적이며 좋은 가격 이점을 제공합니다.

PSS 에칭용 에칭 캐리어 홀더에 대해 자세히 알아보려면 지금 당사에 문의하십시오.


PSS 에칭을 위한 에칭 캐리어 홀더의 매개변수

CVD-SIC 코팅의 주요 사양

SiC-CVD 속성

결정 구조

FCC β 단계

밀도

g/cm ³

3.21

경도

비커스 경도

2500

입자 크기

μm

2~10

화학적 순도

%

99.99995

열용량

J·kg-1·K-1

640

승화 온도

2700

쇠약한 힘

MPa(RT 4점)

415

영률

GPA (4pt 굽힘, 1300â)

430

열팽창(C.T.E)

10-6K-1

4.5

열 전도성

(W/mK)

300

 

PSS Etching용 Etching Carrier Holder의 특징

- 박리를 피하고 모든 표면에 코팅을 하십시오.

고온 내산화성: 최대 1600°C의 고온에서 안정적

고순도: 고온 염소화 조건에서 CVD 화학 기상 증착에 의해 만들어집니다.

내식성: 높은 경도, 조밀한 표면 및 미세 입자.

내식성: 산, 알칼리, 염 및 유기 시약.

- 최고의 층류 가스 흐름 패턴 달성

- 열 프로파일의 균일성 보장

- 오염이나 불순물 확산 방지





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