흑연 발열체

1. 향상된 공정 결과를 위한 정밀 온도 제어:

정교한 온도 제어 시스템과 결합된 Semicorex 흑연 가열 요소는 엄격한 온도 조절과 신속한 열 상승을 가능하게 하여 제조업체가 공정 매개변수를 미세 조정하고 최적의 결과를 얻을 수 있도록 해줍니다.

2. 뛰어난 가열 균일성과 전도도:

흑연 가열 요소는 가열 구조에서 탁월한 균일성을 나타내어 전체 가열 표면에 걸쳐 균일한 열 분포를 보장합니다. 이는 일관되지 않은 웨이퍼 처리, 필름 증착의 변화 또는 결정 성장의 결함으로 이어질 수 있는 핫스팟과 온도 구배를 제거합니다. 또한 뛰어난 열전도율로 인해 효율적인 열 생성이 가능하고 대상 기판이나 공정 챔버로 열이 전달되므로 이러한 효율성은 에너지 소비를 최소화하고 처리 시간을 단축하며 전반적인 비용 절감에 기여합니다.

3. 열응력 하에서의 견고성:

반도체 제조에는 급격한 온도 변화와 극심한 열 순환이 수반되는 경우가 많습니다. 흑연 발열체는 이러한 까다로운 조건을 견딜 수 있도록 설계되었으며 상당한 열 응력 하에서도 구조적 무결성을 유지합니다. 이러한 견고성은 일관된 성능과 연장된 작동 수명을 보장하여 가동 중지 시간을 최소화하고 유지 관리 요구 사항을 줄입니다.

4. 고온에서의 치수 안정성:

정확한 치수를 유지하는 것은 정확한 웨이퍼 위치 지정 및 공정 제어에 중요합니다. 흑연 발열체의 낮은 열팽창 계수는 높은 작동 온도에서도 치수 변화를 최소화합니다. 이러한 치수 안정성은 일관된 가열 패턴, 정밀한 온도 제어 및 반복 가능한 공정 결과를 보장합니다.

5. 우수한 산화 저항:

고온 및 산화 환경에 노출되면 발열체의 성능과 수명이 저하될 수 있습니다. 흑연 발열체는 탁월한 산화 저항성을 나타내어 높은 온도에서 보호 산화물 층을 형성합니다. 이 자연적인 패시베이션 장벽은 추가적인 산화 및 분해를 방지하여 까다로운 반도체 처리 환경에서 장기적인 성능과 신뢰성을 보장합니다.

6. 공정 화학물질에 불활성:

반도체 제조에서는 다양한 반응성 가스와 화학 물질을 활용합니다. 흑연 발열체의 고유한 화학적 불활성으로 인해 이러한 가혹한 물질로 인한 부식 및 성능 저하에 대한 저항력이 매우 높습니다. 이러한 호환성은 수명을 보장하고 민감한 웨이퍼 또는 프로세스 챔버의 오염을 방지합니다.

7. 특정 용도에 맞는 맞춤형 디자인:

Semicorex 흑연 가열 요소는 다양한 반도체 공정의 특정 요구 사항을 충족하기 위해 복잡한 모양과 구성으로 정밀하게 가공될 수 있습니다. 이러한 설계 유연성으로 인해 최적화된 열 분배, 목표 가열 영역 및 급속 열 어닐링 시스템, 화학 기상 증착 챔버 및 확산로를 포함한 다양한 처리 장비로의 통합이 가능합니다.