일반적인 반도체 석영 부품 및 응용 분야

석영은 이산화규소로 구성된 3차원 골격 광물 결정인 삼각 결정 시스템에 속합니다. 일반적으로 순수한 석영은 무색 투명하지만 미량의 색소 이온, 미세하게 분산된 개재물 또는 색상 중심의 형성으로 인해 다양한 색상을 나타냅니다. 다양한 우수한 특성을 지닌 석영은 반도체 제조의 다양한 공정에 널리 적용되며, 그 성능과 품질은 반도체 장치의 수율, 성능 및 비용에 직접적인 영향을 미칩니다.

1. 석영 도가니

그만큼석영 도가니고온 단결정 실리콘 성장 공정에서 다결정 실리콘 원료를 유지하는 데 사용됩니다. 안정적인 지지 재료를 보장하기 위해 석영 도가니는 탁월한 고온 안정성(융점 >1700℃)과 혹독한 고온 작동 조건을 견딜 수 있는 낮은 열팽창 계수를 자랑해야 합니다. 반도체용 석영 도가니는 4N8 등급 이상의 고순도 석영으로 제조되어야 합니다. 이러한 현명한 재료 선택은 고온으로 인해 석영 도가니에서 불순물 침전으로 인한 결정 오염 위험을 효과적으로 낮출 수 있습니다.

석영로 튜브는 일반적으로 확산, 산화, 화학 기상 증착(CVD)과 같은 다양한 웨이퍼 제조 공정을 위한 고온 반응 챔버 역할을 합니다. 그래서석영로 튜브고온 환경으로 인해 변형되거나 부드러워지는 것을 방지하기 위해 우수한 고온 저항 기능이 필요합니다. 일부 공정에서는 수산기가 열 안정성에 미치는 영향을 줄이기 위해 탈수산 처리가 필요합니다. 석영로 튜브를 제조하려면 반응 과정에서 불순물이 침전되어 웨이퍼 처리 결과에 영향을 미치는 것을 방지하기 위해 금속 불순물 함량이 1ppm 이하인 고순도 석영 재료가 필요합니다.

석영 보트는 일반적으로 수십에서 수백 개의 웨이퍼를 운반하고 운반하기 위해 석영 용광로 튜브와 함께 사용됩니다. 그러므로,석영 보트일반적으로 석영로 튜브와 동일한 우수한 고온 저항, 내식성 및 기계적 강도 측면에서 안정적이고 신뢰할 수 있는 성능을 보유해야 합니다.

석영 초점 링건식 에칭 공정을 위해 특별히 설계되었습니다. 일반적으로 플라즈마를 가두어 균질화하기 위해 웨이퍼 주위에 설치되어 웨이퍼의 에칭 속도와 패터닝의 균일성을 효과적으로 보장합니다. 이러한 작동 환경에서는 플라즈마 부식에 대한 강한 저항성, 매우 높은 치수 정확도, 비정상적인 방전이나 입자 생성을 방지하기 위한 매끄러운 표면 마감을 갖춘 석영 초점 링이 필요합니다.