PBN 세라믹 디스크

PBN 세라믹 디스크의 가장 큰 장점 중 하나는 눈에 띄게 높은 순도입니다. 합성 공정에 사용되는 기체 물질(BCl3 + NH3 -> BN + HCl)의 순도는 기존 질화붕소 분말의 순도를 훨씬 초과합니다. 결과적으로 PBN 세라믹 디스크는 99.99%의 순도 수준을 달성하며 총 불순물은 100ppm 미만입니다. 이러한 탁월한 순도는 아주 작은 오염이라도 전자 부품의 결함으로 이어질 수 있는 반도체 제조에 매우 중요합니다. PBN 세라믹 디스크는 이러한 높은 순도를 보장함으로써 오염 위험을 최소화하여 반도체 장치의 신뢰성과 성능을 향상시킵니다.

PBN 세라믹 디스크 생산에 사용된 CVD 공정은 거의 완벽한 층 구조를 제공합니다. 이 독특한 구조는 이방성 열 전도성을 촉진하며, 이는 용광로 및 진공 시스템에 사용되는 구성 요소에 매우 유용한 특성입니다. 이방성 열 전도성을 통해 PBN 세라믹 디스크는 열 분포를 효과적으로 관리하여 디스크 표면 전체에 균일한 온도 제어를 보장합니다. 이 기능은 부품 고장이나 비효율성을 초래할 수 있는 열 구배를 방지하기 위해 정밀한 열 관리가 필요한 반도체 제조 공정에 필수적입니다.

열 복원력 측면에서 PBN 세라믹 디스크는 대표적인 소재로 돋보입니다. 융점을 나타내지 않고 진공 환경에서 최대 1800°C, 질소에서 2000°C의 온도를 견딜 수 있습니다. 이러한 탁월한 열 안정성으로 인해 극한의 온도가 일상적으로 발생하는 용광로 구성 요소 및 용해 용기에 이상적인 선택입니다. 이러한 고온에서 구조적 무결성을 유지하는 능력은 수명과 신뢰성을 보장하고 빈번한 교체 필요성을 줄여 전체 운영 비용을 낮춥니다.

화학적 불활성은 PBN 세라믹 디스크의 또 다른 특징입니다. 산, 알칼리, 유기용매, 용융금속, 흑연 등 다양한 물질과의 반응에 강합니다. 이러한 불활성은 반응성 물질에 대한 노출이 흔한 반도체 제조에서 특히 유리합니다. PBN 세라믹 디스크는 반응하지 않는 상태를 유지함으로써 반도체 구성 요소의 무결성과 기능을 손상시킬 수 있는 원치 않는 화학적 상호 작용을 방지합니다.

반도체 산업에서 PBN 세라믹 디스크의 응용 분야는 다양하고 영향력이 큽니다. 그 특성으로 인해 다양한 고온 및 고순도 환경에서 사용하기에 이상적인 소재입니다. 예를 들어 에피택셜 성장 공정에서 디스크는 순도와 열전도율이 고품질 반도체 레이어 생산을 보장하는 증착 시스템의 중요한 구성 요소 역할을 합니다. 또한 LED 및 기타 광전자 장치 제조에서 PBN 세라믹 디스크는 최적의 장치 성능을 달성하는 데 필요한 복잡한 프로세스를 지원하는 안정적이고 신뢰할 수 있는 플랫폼을 제공합니다.

또한, PBN 세라믹 디스크의 역할은 전력 전자 장치 제조까지 확장됩니다. 이러한 장치는 고온에서 작동하는 경우가 많으며 그러한 조건에서도 성능을 유지할 수 있는 재료가 필요합니다. PBN 세라믹 디스크의 뛰어난 열적, 화학적 특성으로 인해 전력 전자 시스템 내의 기판 및 기타 구성 요소에 적합한 선택이 되어 이러한 장치의 효율성과 내구성에 기여합니다.

질화붕소 구조