PBN 도가니

Semicorex pyrolytic 붕소 질화 붕소 PBN 도약은 반도체 제조, 결정 성장 및 진공 응용과 같은 산업의 고온 및 초고 공정의 엄격한 요구를 충족하도록 설계된 정밀 엔지니어링 구성 요소입니다. 화학 증기 증착 (CVD) 공정을 통해 제작 된 PBN 도가기는 우수한 순도, 뛰어난 열 안정성 및 뛰어난 화학적 불활성을 제공하여 고급 재료 공학에서 선택한 재료를 제공합니다.

질화 붕소는 석영과 비교할 수있는 열 팽창 계수를 가지므로 열 전도도는 후자의 10 배이므로 열 충격 저항성이 우수하여 빠른 온도 변화로 인해 균열의 위험을 줄일 수 있으며 문제없이 20 ~ 1200에서 여러 번 순환 할 수 있습니다. 또한, 질화 붕소는 산, 알칼리, 유리 및 대부분의 금속과 반응하지 않으며, 기계적 강도가 낮고 흑연보다 약간 높지만 고온에서 부하 하에서 부드럽 지 않으며 일반적인 금속 가공 기계에 의해 처리 될 수 있습니다. 따라서, 실제로 도가니, 용기, 액체 금속 전달 파이프 및 금속 용융 및 증발을위한 강철 주조 용 곰팡이로 사용하기에 적합합니다.

일반적으로 붕소 함유 가스 (BCL3 또는 B2H6)를 원료로 사용하여 화학 기상 증착에 의해 만들어 지지만, B2H6은 독성이 높기 때문에 BCL3은 현재 원료로 사용됩니다. 붕소-함유 가스는 열분해 (1500 ~ 1800 ℃)를 겪고 고온 반응 챔버에서 NH3과 반응하여 질화 고체 질화물을 형성한다. 반응 중에 열분해가 발생하기 때문에질화 붕소도가니 (일반적으로 PBN 도가니로 알려짐).

물질의 성장 과정은 "떨어지는 눈"과 유사합니다. 시간이 지남에 따라 축적 층이 두껍게되어 PBN 쉘을 형성합니다. 데 몰딩은 독립적이고 순수한 PBN 구성 요소이며 PBN 코팅이 남아 있습니다. PBN 도가치는 전통적인 뜨거운 압박 소결 공정을 거치지 않아도되며 소결제를 추가 할 필요가 없으므로 순도가 매우 높고 (99.99%이상) 진공 상태에서 작동 온도는 1800도 정도이며 대기 보호의 작동 온도는 최대 2100 ° C (일반적으로 질소 또는 아르곤)에 도달 할 수 있습니다. 주로 증발/분자 빔 에피 택시 (MBE)/GAAS 결정 성장 및 기타 목적에 사용됩니다.