PBN 정전척

재료 특성PBN정전척

고온 저항 및 유전 강도

그만큼PBN정전 척은 반도체 제조 공정에서 중추적인 특성인 탁월한 고온 저항으로 유명합니다. 척 구성에 사용되는 재료인 열분해 질화붕소(PBN)는 가장 일반적으로 사용되는 세라믹보다 높은 저항률을 나타내며, 이는 J-R(Johnsen-Rahbek) 척 힘을 최대 1050°C의 온도까지 유지하는 데 중요합니다. 높은 유전 강도와 높은 저항률은 강한 열 속에서도 전기적 파손을 효과적으로 방지하여 척의 작동 신뢰성을 향상시킵니다.

열 균일성과 충격 저항

PBN은 1500°C 이상의 온도에서 화학기상증착(Chemical Vapor Deposition)을 통해 만들어진 육각형 격자 구조로 뛰어난 열 균일성과 내충격성을 제공합니다. 내부의 고밀도 발열체PBN정전척을 사용하면 600~800°C의 온도에서 1.1~1.5%의 균일성으로 일관된 웨이퍼 열 프로필을 달성할 수 있습니다. 또한 PBN 기반 척은 뛰어난 열 충격 저항성과 낮은 열 질량을 보여 균열이나 박리 위험 없이 23°C/sec의 빠른 램핑 속도로 600°C에 도달할 수 있습니다.

맞춤형 다중 구역 난방

PBN 정전기 척은 최대 온도 제어가 가능한 다중 구역 가열 기능을 갖추고 있어 맞춤화가 가능합니다. 이러한 수준의 맞춤화를 통해 각 척은 개별 고객의 특정 요구 사항을 충족하도록 맞춤화될 수 있으며 다양한 반도체 처리 응용 분야에 유연한 솔루션을 제공합니다.

응용PBN정전척

이온 주입 및 웨이퍼 처리

PBN 정전 척은 이온 주입 공정에서 선호되는 웨이퍼 처리 장치입니다. 1000°C가 넘는 온도에서 웨이퍼를 고정할 수 있는 능력으로 인해 시장에서 가장 다재다능한 정전척 중 하나가 되었습니다. 이러한 다용성은 고밀도 다중 구역 가열 요소 덕분에 매우 엄격한 온도 범위 내에서 웨이퍼를 유지할 수 있는 능력으로 더욱 향상됩니다.

실리콘 카바이드 이온 주입

SiC 이온 주입의 특정 응용 분야에서는PBN정전척은 웨이퍼 가열 및 취급 문제에 대한 실행 가능한 솔루션을 제공합니다. 높은 척 힘, 높은 가열력, 우수한 열 균일성 및 빠른 응답을 포함하는 이중 기능 기능은 SiC 이온 주입의 복잡한 요구 사항을 해결하는 데 이상적인 선택입니다.

반도체 제조

PBN 정전 척은 정밀한 웨이퍼 핸들링과 온도 제어가 필수적인 반도체 제조에서 중요한 역할을 합니다. 높은 열충격 저항성과 빠른 온도 상승 기능 덕분에 엄격한 온도 관리와 빠른 열 순환이 요구되는 첨단 반도체 공정에 적합합니다.