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유도 가열 배럴 Epi 시스템
탁월한 열전도율과 열 분포 특성을 갖춘 흑연 서셉터가 필요한 경우 Semicorex 유도 가열 배럴 Epi 시스템을 찾아보십시오. 고순도 SiC 코팅은 고온 및 부식성 환경에서 탁월한 보호 기능을 제공하므로 반도체 제조 응용 분야에 사용하기에 이상적인 선택입니다.
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반도체 에피택셜 반응기의 배럴 구조
뛰어난 열 전도성과 열 분포 특성을 갖춘 반도체 에피택셜 반응기용 Semicorex 배럴 구조는 LPE 공정 및 기타 반도체 제조 응용 분야에 사용하기에 완벽한 선택입니다. 고순도 SiC 코팅은 고온 및 부식성 환경에서 탁월한 보호 기능을 제공합니다.
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SiC 코팅 흑연 배럴 서셉터
반도체 제조 응용 분야에 사용할 고성능 흑연 서셉터를 찾고 있다면 Semicorex SiC 코팅 흑연 배럴 서셉터가 이상적인 선택입니다. 뛰어난 열전도율과 열 분포 특성으로 인해 고온 및 부식성 환경에서 안정적이고 일관된 성능을 발휘하는 데 적합합니다.
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SiC 코팅 결정 성장 지지체
높은 융점, 내산화성 및 내식성을 갖춘 Semicorex SiC 코팅 결정 성장 서셉터는 단결정 성장 응용 분야에 사용하기에 이상적인 선택입니다. 탄화규소 코팅은 탁월한 평탄도와 열 분포 특성을 제공하므로 고온 환경에 이상적인 선택입니다.
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액상 에피택시용 배럴 서셉터
가장 까다로운 고온 및 부식성 환경에서도 안정적이고 일관되게 작동할 수 있는 흑연 서셉터가 필요한 경우 액상 에피택시용 Semicorex 배럴 서셉터가 완벽한 선택입니다. 탄화규소 코팅은 우수한 열 전도성과 열 분포를 제공하여 반도체 제조 응용 분야에서 탁월한 성능을 보장합니다.
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실리콘 카바이드 코팅 흑연 배럴
Semicorex 탄화규소 코팅 흑연 배럴은 높은 내열성과 내식성을 요구하는 반도체 제조 응용 분야에 완벽한 선택입니다. 탁월한 열 전도성과 열 분포 특성으로 인해 LPE 공정 및 기타 고온 환경에 사용하기에 이상적입니다.
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