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SiC 코팅 PSS 에칭 캐리어

에픽시얼 성장 및 웨이퍼 취급 공정에 사용되는 웨이퍼 캐리어는 고온과 가혹한 화학적 세척을 견뎌야 합니다. Semicorex SiC 코팅 PSS 에칭 캐리어는 이러한 까다로운 에피택시 장비 응용 분야를 위해 특별히 설계되었습니다. 당사의 제품은 가격 경쟁력이 뛰어나며 유럽 및 미국 시장의 많은 부분을 포괄합니다. 우리는 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 기대하고 있습니다.

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LPE 에피택셜 성장을 위한 SiC 코팅 배럴 서셉터

LPE 에피택셜 성장을 위한 Semicorex SiC 코팅 배럴 서셉터는 장기간에 걸쳐 일관되고 안정적인 성능을 제공하도록 설계된 고성능 제품입니다. 균일한 열 프로필, 층류 가스 흐름 패턴 및 오염 방지 기능을 통해 웨이퍼 칩의 고품질 에피택셜 레이어를 성장시키는 데 이상적인 선택입니다. 맞춤화 가능성과 비용 효율성으로 인해 시장에서 경쟁력이 매우 높은 제품입니다.

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배럴 수신기 Epi 시스템

Semicorex Barrel Susceptor Epi System은 우수한 코팅 접착력, 고순도, 고온 산화 저항성을 제공하는 고품질 제품입니다. 균일한 열 프로필, 층류 가스 흐름 패턴 및 오염 방지 기능을 통해 웨이퍼 칩의 에픽시얼 레이어 성장에 이상적인 선택입니다. 비용 효율성과 사용자 정의 가능성으로 인해 시장에서 경쟁력이 매우 높은 제품입니다.

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액상 에피택시(LPE) 반응기 시스템

Semicorex LPE(액상 에피택시) 반응기 시스템은 뛰어난 열 성능, 균일한 열 프로파일 및 우수한 코팅 접착력을 제공하는 혁신적인 제품입니다. 고순도, 고온 내산화성 및 내식성은 반도체 산업에 사용하기에 이상적인 선택입니다. 맞춤형 옵션과 비용 효율성으로 인해 시장에서 경쟁력이 매우 높은 제품입니다.

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배럴 반응기의 CVD 에피택셜 증착

배럴 반응기의 Semicorex CVD 에피택셜 증착은 웨이퍼 칩의 에피시얼 레이어를 성장시키기 위한 내구성이 뛰어나고 안정적인 제품입니다. 고온 내산화성과 고순도 덕분에 반도체 산업에 사용하기에 적합합니다. 균일한 열 프로파일, 층류 가스 흐름 패턴 및 오염 방지 기능을 갖추고 있어 고품질 에픽시얼 레이어 성장을 위한 이상적인 선택입니다.

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배럴 반응기의 실리콘 에피택셜 증착

반도체 제조 응용 분야에 사용하기 위해 고성능 흑연 서셉터가 필요한 경우 배럴 반응기의 Semicorex Silicon Epitaxis Deposition이 이상적인 선택입니다. 고순도 SiC 코팅과 탁월한 열 전도성은 탁월한 보호 및 열 분산 특성을 제공하므로 가장 까다로운 환경에서도 안정적이고 일관된 성능을 발휘할 수 있는 선택입니다.

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