석영 액체 저장 탱크

Semicorex Quartz 액체 저장 탱크는 액체 취급에 특별한 수준의 청결과 재료의 안정성이 필요한 반도체 습식 청정 응용 프로그램을위한 목적으로 제작 된 용기입니다. 주로이 탱크는 웨이퍼 세정 응용 분야에서 폐기물 또는 잔류 액체를 수집하는 데 사용됩니다. 프로세스 생산성 및 오염 제어에는 매우 중요합니다. 습한 깨끗한 공정 동안, 반도체 웨이퍼 헹굼은 헹굼 끝에 폐기물 액체가되는 대량의 초음파수 또는 화학 시약이 포함됩니다. 또한, 헹굼 후 잔류 액체는 잠재적 인 미량 불순물 또는 배수구 아래로 내려 가지 말아야 할 귀중한 화학 성분이 있기 때문에 수집되어야합니다. 추가 잔류 물이나 폐기물 화학 물질을 수집 해야하는 포토 레지스트 응용과 같은 코팅 단계를 수행 할 때 폐기물 액체를 수집해야합니다. 따라서, 석영 액체 저장 탱크는 고순도, 화학적 호환성 및 낮은 오염 물질 특성을 제공하는 완벽한 결과물을 갖는다.

탱크는 반도체 청소 및 리소그래피에 정기적으로 사용되는 강산, 알칼리 및 용매에 매우 강한 고순도 융합 석영으로 만들어졌습니다. 기존의 용기이든, 석영은 액체 물질에 2 차 오염 물질 노출, 침출 또는 원치 않는 이온 노출이없는 가장 좋은 기회를 제공합니다. 석영 액체 저장 탱크의 주요 측면 중 하나는 반도체 팹에서 분석 워크 플로우를 지원하는 능력입니다. 석영 용기에서 수집 된 잔류 액체는 불순물 감지, 오염 분석 및 화학적 재활용과 같은 다운 스트림 공정에 사용될 수 있기 때문입니다. 석영의 특성에 내재 된 것은 잔류 유체를 안전하게 함유하고 불활성과 투명성을 감안할 때 상호 작용의 위험없이 시각적 평가를 허용 할 수 있으며, 열 안정성 외에도 탱크의 모든 유체가 유체를 분해하거나 영향을 줄 수없는 공정 온도에 약간 가속 될 수 있습니다. 즉, 석영 액체 저장 탱크는 폐기물 수집과 단기 저장을 위해 전달되거나 처리되기 전에 설계되었습니다.

프로세스 오염 제어의 모든 세부 사항, 특히 고급 장치 제조 노드가 줄어들고 청결 매개 변수가 더욱 엄격 해짐에 따라 문제가됩니다. 석영 액체 저장 탱크는 팹 운영자가 폐기물 관리가 2 차 오염의 원인이되지 않는다고 확신합니다. 잔류 청소 용액 또는 과도한 공정 액체를 함유함으로써 상류 및 다운 스트림 워크 플로가 유효하게 영향을받지 않도록합니다. 또한, 수집 된 액체는 시약 정제 및 재사용을 위해 가공 될 수 있으므로 탱크의 지속 가능성 목표를 지원하므로 화학적 집약적 인 공정이 다른 또 다른 화학 물질 집약적 인 공정을 사용하여 전반적으로 환경 부하를 덜 만듭니다.

실질적인 관점에서, 석영 액체 저장 탱크의 설계를 통해 습식 세척 하드웨어 및 화학 관리 시스템에 쉽게 통합 할 수 있습니다. 폼 팩터는 기존 도구 구성에 맞게 조정할 수 있습니다. 정밀 제조 방법은 둥근 치수를 보장하고 매끄러운 내부 표면은 반도체 팹 환경에 모든 액체를 쉽게 운반하고 저장할 수 있도록합니다. 비 다공성 석영 구조는 오염 물질의 흡수를 방지하고 탱크의 청소를 허용하여 상당한 부피 작동에서 화학 제어 환경에서 작동하는 기존의 플라스틱 용기와 달리 재사용 할 수 있습니다.

결론적으로, 석영 액체 저장 탱크는 모든 반도체 습식 세정 및 코팅 응용 분야에서 중요하게 설계되었습니다. 반도체 운영 시설에서 최상의 재료 순도, 화학 저항 및 오염이없는 액체 저장을 만들어 팹은 오염이 거의 없거나 전혀 없어서 프로세스를 효과적으로 제어 할 수 있습니다. 팹이 탱크를 사용하여 직접 폐기물 수집, 시약 등의 복구 또는 불순물 분석을 위해 공정의 중요한 단계의 기록은 작업을 손상시키지 않고 원래 상태로 유지되는지 여부. 수율을 극대화하고, 작업 과정에 대한 위험을 최소화하고 안정성 손실을 최소화하고, 부산물의 화학 관리 효율을 극대화하려면, 오염이없는 쿼츠는 모든 습식 청소와 함께 안정적인 성능을 제공하는 유일한 선택입니다.