SiC 세라믹 패들

Semicorex SiC 세라믹 패들은 산화 및 확산과 같은 고온 반도체 용광로 응용 분야를 위해 개발된 고급 부품입니다. 패들은 고온에서 웨이퍼를 고정하고 이동시키는 캔틸레버 지지대 역할을 합니다. Semicorex SiC 세라믹 패들은 생산 공정 전반에 걸쳐 신뢰성, 안정성 및 성능이 요구되는 고온 공정에 고순도, 고강도 세라믹 부품을 제공합니다.

패들은 고순도로 생산됩니다.탄화규소(SiC)고유의 강도와 강성으로 인해 처짐을 최소화하면서 우수한 하중 지지 특성을 갖고 있으며 이는 적절한 웨이퍼 처리 및 정렬에 필수적입니다. 산화 및 확산로에서 부식성 대기는 시간이 지남에 따라 전통적인 재료를 공격하고 저하시킬 수 있지만 SiC는 화학적 안정성을 유지하여 패들의 사용 수명을 연장하는 기능을 가지고 있습니다. 패들을 거의 자주 교체하거나 수리할 필요가 없기 때문에 유지 관리 및 교체 비용이 크게 절감됩니다.

SiC 세라믹 패들의 또 다른 중요한 특징은 고온에서의 뛰어난 성능입니다. SiC의 융점은 2700+C이므로 패들은 고온에 노출될 때 강도와 기계적 안정성을 유지합니다.

시간이 지남에 따라 특성이 달라집니다. 열적 특성은 반복적인 가열 및 냉각 주기 동안 재료의 뒤틀림과 균열을 제한하는 동시에 생산 환경에서 긴 서비스 수명을 제공합니다.

반도체 가공에는 미량의 불순물이라도 장치의 수율과 동작에 영향을 미칠 수 있으므로 매우 깨끗한 환경이 필요합니다. 패들에 사용되는 SiC 소재에는 화학적 기상 증착(CVD) SiC 코팅이 적용되어 금속 오염을 최소화하면서 매우 높은 소재 순도를 촉진합니다. SiC 세라믹 패들은 전체 수명 동안 깨끗하고 안정적인 상태를 유지합니다. 캔틸레버 지지대로서 패들은 용광로에 삽입 및 제거되는 동안 웨이퍼 캐리어 또는 보트를 안전하게 지지해야 합니다. 때문에SiC고유의 강도와 강성으로 인해 처짐을 최소화하면서 우수한 하중 지지 특성을 갖고 있으며 이는 적절한 웨이퍼 처리 및 정렬에 필수적입니다. 산화 및 확산로에서 부식성 대기는 시간이 지남에 따라 전통적인 재료를 공격하고 저하시킬 수 있지만 SiC는 화학적 안정성을 유지하여 패들의 사용 수명을 연장하는 기능을 가지고 있습니다. 패들을 거의 자주 교체하거나 수리할 필요가 없기 때문에 유지 관리 및 교체 비용이 크게 절감됩니다.

성능 외에도 특정 장비 및 프로세스에 맞게 패들을 맞춤 설정할 수 있는 유연성이 있습니다. 치수, 공차 및 표면 마감을 유연하게 만들어 용광로 설계와 기타 웨이퍼 처리 시스템 간의 적합성을 보장할 수 있습니다. 세라믹의 정밀 가공을 통해 높은 수준의 치수 정확성을 달성할 수 있는 능력을 통해 복잡한 기하학적 구조를 충족하는 패들을 생산할 수도 있습니다. 이 전체 기능은 원활한 작동과 기존 생산 라인에의 손쉬운 통합을 제공하기 위한 것입니다.

SiC 세라믹패들은 고순도, 열 안정성, 기계적 강도, 내화학성을 모두 갖춘 반도체 산화 및 확산 공정에 필수적인 소재입니다. 웨이퍼 이송을 위한 안정적이고 깨끗한 플랫폼을 제공함으로써 수율, 공정 일관성 및 전반적인 제조 효율성 향상에 직접적으로 기여합니다.