SiC 공정 튜브

Semicorex SiC 공정 튜브는 반도체 제조 공정에서 산화, 확산, RTA/RTP의 중요한 구조 부품입니다. 일반적으로 반응로 공간으로서 직경이 큰 튜브이므로 모든 화학 공정이 내부에서 발생합니다. 따라서 강도, 내열충격성은 모두 제품의 매우 기본적인 포인트입니다.

SiC 프로세스 튜브는 다음과 같이 제작됩니다.소결된 실리콘 카바이드, SiSiC, SSiC 또는 RSiC일 수 있으며 표면에 CVD SiC 코팅을 적용하여 초고순도 층을 형성합니다. 입자, 재 등에 의한 오염을 방지할 수 있습니다. 또한 재료의 열 충격 저항이 매우 높으므로 SiC 프로세스 튜브는 고온 저항에서 안정적으로 유지되고 불순물이 고온에서 침전되어 환경을 오염시키는 것을 방지할 수 있습니다.

이 SiC 공정 튜브는 반응성 가스(산소), 보호 가스(질소) 및 최소량의 염화수소 가스가 있는 대기에서 사용하도록 설계되었으며 뛰어난 내화학성, 열 안정성 및 1250°C까지 재료 순도를 제공합니다. Semicorex SiC 공정 튜브는 최첨단 3D 프린팅 제조와 화학 기상 증착(CVD) 코팅을 결합하여 가장 극한의 열 및 화학적 조건에서 탁월한 성능과 수명을 제공합니다.

Semicorex SiC 공정 튜브는 기존의 프레스 성형 또는 조립 튜브가 아닌 3D 인쇄 통합 성형 공정을 통해 생산됩니다. 이 제조 공정을 통해 접합부나 취약한 부분이 없는 연속적이고 일관된 세라믹 구조가 가능하며, 높은 수준의 복잡성과 치수 충실도를 생성하여 기계적 강도를 향상시키면서 응력 집중을 완화할 수 있습니다. 또한 모놀리식 구조는 천연 기밀 밀봉을 제공하여 고온 공정 중 오염과 누출을 줄입니다.

그만큼SiC몸체는 불순물이 매우 적은 물질(< 300ppm)로 반응성 대기에 대한 우수한 물질 순도와 안정성을 제공합니다. 또한 튜브는 CVD 실리콘 카바이드 층(< 5ppm)으로 코팅되어 내식성과 표면 보호 기능을 향상시킵니다.

Semicorex는 필요한 사양 요구 사항을 충족하기 위해 고객의 도면에 따라 생산할 수 있는 맞춤형 서비스를 제공합니다. 따라서 Semicorex SiC 공정 튜브는 수평로뿐만 아니라 수직로에도 적합할 수 있습니다.