알루미나 세라믹 팔

Semicorex Alumina Ceramic Arm은 반도체 응용 분야의 최고 사양으로 개발 된 엔지니어링 구성 요소입니다. 고순도 Alumina (Al₂o₃)로 만들어진이 제품은 기계적 강도, 열 안정성 및 화학 저항의 독특한 조합을 특징으로하는 로봇 암입니다. ARM은 웨이퍼 처리 만 사용하도록 설계되었을뿐만 아니라 고급 제조 사이트에서 프로세스 지원을 제공해야합니다. 또한 오염이나 손상없이 웨이퍼가 양도, 위치 및 처리되도록해야합니다. 프로세스의 수확량과 신뢰성 향상.

알루미나기술 세라믹 분야에서 가장 널리 사용되는 기술 세라믹 중 하나입니다. Alumina는 공격적인 환경에서 경도, 내마모성 및 안정성으로 유명합니다. Ceramic Arm의 목표가 오염을 도입하지 않고 웨이퍼 처리를 관리하기 위해서는 알루미나의 특성을 활용하고 높은 순도 및 입자 크기의 결과로 마모에 대한 훨씬 높은 수준의 저항을 전달할 수 있습니다. 따라서, 그것은 웨이퍼 또는 다른 종류의 반도체 기판으로 반복적 인 움직임 동안 과도한 입자를 생성하지 않습니다.  또한 입자의 잠재력을 추가로 제한하는 밀도 및 낮은 다공성은 자유롭게 파괴되며, 서브 미크론 장치 취급에 필요한 청결을 방해하지 않고 반도체 개발 팹의 초 세정 요구 사항을 충족시킵니다.

알루미나기계적 강도 외에도 뛰어난 열 안정성을 보유하고 있습니다. 알루미나 세라믹 암은 뒤틀림, 균열 또는 힘을 잃지 않고 극한의 공정 온도를 견딜 수 있습니다. 이 특성은 확산, 산화 또는 어닐링 단계와 같은 높은 온도에 노출되는 모든 공정 단계에 통합하는 데 이상적입니다. 웨이퍼는 열 순환 하에서 기계적 무결성을 유지함에 따라 어려운 공정 환경에서 전달에 대한 신뢰성이 향상 될 것입니다.

화학 저항은 알루미나 세라믹 암의 또 다른 기본 긍정적입니다. 반도체 제조에서, 치료는 종종 강산, 알칼리 및 기타 공격적인 화학 물질을 포함하는 웨이퍼에서 수행됩니다. 금속성 성분은 부식 또는 침출 불순물이있을 수 있지만, 알루미나는 화학적으로 불활성이므로 팔과 웨이퍼의 무결성을 보호합니다. 따라서 불활성은 성분의 수명을 연장하는 동시에 습식 청소 또는 화학 기상 증착과 같은 중요한 공정 단계에서 오염 가능성을 줄입니다.

알루미나 세라믹 Arm은 호환성과 정밀도에 중점을두고 설계되었습니다. 각 암은 꽉 차 차원 공차로 만들어져 정확한 웨이퍼 정렬 및 이동 및 자동 웨이퍼 처리 장비 및 로봇 시스템과의 호환성을 보장합니다. 매끄럽고 세련된 표면 마감재는 웨이퍼와의 마찰 인터페이스가 낮아 웨이퍼를 긁을 가능성을 줄이며, 이는 웨이퍼 무결성/환경 청결 및 결함 속도 감소에 필수적입니다. 이러한 엔지니어링 된 공차는 팔이 빠르게 진행되는 높은 처리량 환경에서 자유롭게 작동하도록하고 ARM의 인간 및 완전 자동화 된 반도체 워크 플로를 허용합니다.

알루미나 세라믹 암은 화학 및 기계적 성능을 넘어서 도달하며 여러 수준의 운영 효율성 및 비용 절감에 영향을 미칩니다. 세라믹의 입증 된 내구성 특성은 암이 반복적 인 기계적 하중 하에서 설계 수명 측면에서 플라스틱 또는 알루미늄과 같은 복합 재료를 능가 할 수있게하므로 작동 중단 시간 및/또는 교체 비용의 양을 줄입니다. 가혹한 환경을 견딜 수있는 능력에는 환경 청결도가 포함되며, 제조 중단이 적어 일관된 웨이퍼 생산을 개선하고 수율을 높이고 궁극적으로 반도체 제조업체의 ROI (수익률)가 더 높아집니다.

사용하기위한 옵션알루미나 세라믹반도체 프로세스 용 ARM은 습식 벤치, 확산 용광로 및 증착 챔버 사이의 웨이퍼에서 기판을 사용하는 검사 및 계측 도구에 이르기까지 사실상 끝이 없습니다. 이 제품의 다양성은 웨이퍼 처리 애플리케이션에 사용할 수있을뿐만 아니라 정확도, 청결 및 신뢰성이 필요한 추가 자동화 상황도 가능합니다. 반도체 산업은 장치 제조 내에서 작은 노드와 복잡성을 향상시키고 복잡성을 향상시키고 있으며, 업계가 신뢰할 수 있고 비 동백한 더 나은 취급 솔루션을 요구함에 따라 세라믹 로봇 암은 명확한 경로를 만듭니다.