sic 손가락

Semicorex Sic Fingers는 1 차 응용 프로그램이 반도체 처리 장비, 특히 웨이퍼 취급 및 지원 시스템에있는 특수 부품입니다. 그들의 주요 기능은 에피 택시, 이온 이식 또는 열처리와 같은 과정에서 웨이퍼를지지하거나 유지하는 것입니다. 실리콘 카바이드는 기계적 강도를 우수한 열 및 화학 저항성과 결합하며, 이러한 특성은 고급 반도체 제조 라인에서 필요하므로 SIC 손가락은 이러한 응용 분야에서 필수 불가결합니다.

판매 기능실리콘 카바이드물질은 기계적 무결성을 잃지 않고 매우 높은 작동 온도를 견딜 수있는 능력입니다. 에피 택셜 성장과 같은 반도체 프로세스에서 웨이퍼는 갑자기 온도가 갑자기 장시간에 걸쳐 있습니다. SIC 손가락은 한 번 참여하는 고온주기 동안 정렬과 강도를 유지하므로 웨이퍼가 제자리에 유지되어 수용 가능한 장치 수율을 달성하기 위해 적절한 공정 균일 성을 유지하기 위해 변형 또는 오정렬을 피하기 위해 움직임을 최소화합니다. SIC 손가락은 일반적인 세라믹 또는 금속 지지자보다 훨씬 긴 서비스를 제공하면서 고온 하중에서 훨씬 일관성이 있습니다.

SIC 손가락의 주요 이점은 우수한 화학 저항성입니다. 모든 반도체 적용은 반응성 가스, 플라즈마에 대한 노출 및 부식성 화학 물질에 대한 노출을 포함합니다. 부식성 또는 붕괴 된 물질은 웨이퍼 품질을 저하시킬 수있는 입자 또는 오염 물질을 방출함으로써 반응합니다.실리콘 카바이드화학적으로 불활성 표면이있어 공격적인 화학 물질에 부착하거나 반응하지 않아 깨끗한 공정 환경을 생성하고 오염 위험이 크게 줄어 듭니다. 이는 웨이퍼 처리 도구의 내구성을 추가하여 수율이 높은 반도체 장치를 생산하는 데 중요한 안정적이고 반복 가능한 공정 결과에 직접 기여합니다.

정밀도는 SIC 손가락의 디자인에서 또 다른 주요 고려 사항입니다. 웨이퍼 핸들링에는 매우 긴 공차가있는 구성 요소가 수반되며, 마이크로 미터는 웨이퍼 오정렬을 유발하거나 웨이퍼를 파괴 할 가능성을 높이거나 프로세스에서 불일치를 유발할 수 있습니다. 최신 가공 및 연마 기술을 활용함으로써 SIC 손가락은 가장 높은 치수 공차와 표면 평탄도 및 부드러운 마감으로 생산할 수 있습니다. 이를 통해 입자 형성의 잠재력 감소와 자동 반도체 처리 장비에서 웨이퍼 처리 응용의 반복 성능을 갖춘 웨이퍼 지원을위한 안정적인 비교적 관성 자유 플랫폼을 보장합니다.

SIC 손가락의 기본 재료 장점 외에도 각 장비 또는 공정 요구 사항에 맞게 특정 할 수 있습니다. 다른 웨이퍼 크기, 다른 반응기 설계 및 다른 운영자 처리에는 특정 제조 솔루션이 필요합니다. SIC 손가락은 모든 형상 또는 치수로 만들 수 있으며, 특정 응용 분야에 적합한 표면 처리를 적용 할 수 있습니다.

SIC 손가락은 또한 오랜 수명 (교체 빈도 저하)과 열 또는 화학적 스트레스로 인한 고장 또는 증착 오염으로 인해 다운 타임 감소로 인해 운영 비용을 줄입니다. 반도체 제조업체의 내구성과 신뢰성으로 인해 SIC 손가락을 활용하면 가동 시간이 증가하고 소모품이 소모 할 수있는 비용이 증가하며 전반적인 프로세스 효율성이 향상됩니다.

실질적으로, SIC 손가락은 극도의 열 및 화학 공정 동안 안정적인 웨이퍼 유지를 제공하기 때문에 주로 에피 택시 성장 반응기에 사용됩니다. 또한 기계적 안정성뿐만 아니라 화학적 불활성이 중요한 이온 임피 또는 고온 어닐링에도 사용됩니다. 애플리케이션에서 일관된 성능은 웨이퍼 취급에 사용하여 프로세스 균일 성, 웨이퍼 무결성 및 품질을 제공하는 데 중요합니다.

Semicorex sic 손가락은 다음의 장점의 강력한 예입니다.실리콘 카바이드 물질 고온의 경우 화학 저항성, 정밀 조작 된 반도체 성분. SIC 손가락의 재료 환경은 고온 안정성, 탁월한 화학 저항성 및 높은 정밀 표준으로 제조하는 능력을 제공합니다. 강력하고 맞춤형 구성 요소는 반도체 제조업체의 안정적인 생산 및 개선 된 수율 및 비용 효율성을 달성하는 데 중요합니다. SIC 손가락은 프로세스 안정성 및 품질 보증에 중점을 둔 팹을위한 고급적이고 안정적인 솔루션입니다.