SiC 코팅이 적용된 CVD 샤워 헤드

고순도 흑연으로 구성되고 CVD 방법을 통해 얇은 SiC 층으로 둘러싸인 SiC 코팅이 적용된 CVD 샤워 헤드는 흑연과 SiC의 유리한 특성을 결합합니다. 이러한 시너지 효과로 인해 가스의 일관되고 정확한 분포를 보장하는 데 탁월할 뿐만 아니라 증착 환경에서 자주 발생하는 열적, 화학적 가혹함에 대한 뛰어난 탄력성을 자랑하는 구성 요소가 탄생했습니다.

SiC 코팅이 적용된 CVD 샤워 헤드 기능의 핵심은 기판 표면 전체에 전구체 가스를 균일하게 분산시키는 능력입니다. 이는 기판 위의 전략적 배치와 표면에 구멍을 뚫는 작은 구멍 또는 노즐의 세심한 설계를 통해 달성되는 작업입니다. 이러한 균일한 분포는 일관된 증착 결과를 달성하는 데 중추적인 역할을 합니다.

SiC 코팅이 적용된 CVD 샤워 헤드용 코팅 재료로 SiC를 선택하는 것은 임의적인 것이 아니라 뛰어난 열 전도성과 화학적 안정성을 통해 알 수 있습니다. 이러한 특성은 CVD 공정의 대표적인 가혹한 조건과 부식성 가스에 대한 강력한 방어 기능을 제공할 뿐만 아니라 증착 공정 중 열 축적을 완화하고 기판 전체에 균일한 온도를 유지하는 데 필수적입니다.

다양한 CVD 시스템 및 프로세스 요구 사항의 특정 요구 사항을 충족하도록 맞춤 제작된 SiC 코팅이 적용된 CVD 샤워 헤드의 디자인은 세심하게 계산된 구멍 또는 슬롯 배열이 장착된 플레이트 또는 디스크 모양을 포함합니다. SiC Coat 디자인의 CVD 샤워 헤드는 균일한 가스 분배뿐만 아니라 증착 공정에 필수적인 최적의 유량을 보장하여 재료 증착 공정에서 정밀도와 균일성을 추구하는 핵심 요소로서의 부품 역할을 강조합니다.