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유도 결합 플라즈마(ICP)

유도 결합 플라즈마(ICP)

Semicorex의 ICP(유도 결합 플라즈마)용 탄화규소 코팅 서셉터는 에피택시 및 MOCVD와 같은 고온 웨이퍼 처리 공정을 위해 특별히 설계되었습니다. 최대 1600°C의 안정적인 고온 내산화성을 갖춘 당사의 캐리어는 균일한 열 프로파일, 층류 가스 흐름 패턴을 보장하고 오염 또는 불순물 확산을 방지합니다.

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제품 설명

고온, 혹독한 화학적 환경을 처리할 수 있는 웨이퍼 캐리어가 필요하십니까? Semicorex의 ICP(유도 결합 플라즈마)용 실리콘 카바이드 코팅 서셉터를 만나보세요. 당사의 캐리어는 우수한 내열성, 균일한 열 균일성 및 내구성 있는 내화학성을 제공하는 미세한 SiC 크리스탈 코팅을 특징으로 합니다.
유도 결합 플라즈마(ICP)용 SiC 서셉터에 대해 자세히 알아보려면 지금 당사에 문의하세요.


유도 결합 플라즈마(ICP)용 서셉터의 매개변수

CVD-SIC 코팅 주요 사양

SiC-CVD 속성

결정 구조

FCC β상

밀도

g/cm ³

3.21

경도

비커스 경도

2500

입자 크기

μm

2~10

화학적 순도

%

99.99995

열용량

Jkg-1 K-1

640

승화 온도

2700

굽힘 강도

MPa(RT 4점)

415

영률

Gpa (4pt 굴곡, 1300℃)

430

열팽창(C.T.E)

10-6K-1

4.5

열전도율

(W/mK)

300


유도 결합 플라즈마(ICP)용 실리콘 카바이드 코팅 서셉터의 특징

- 벗겨짐을 방지하고 모든 표면에 코팅을 보장합니다.

고온 내산화성: 최대 1600°C의 고온에서 안정적

고순도: 고온 염소화 조건에서 CVD 화학 기상 증착으로 만들어졌습니다.

내식성: 높은 경도, 조밀한 표면 및 미세한 입자.

내식성: 산, 알칼리, 염분 및 유기 시약.

- 최상의 층류 가스 흐름 패턴 달성

- 열 프로파일의 균일성 보장

- 오염이나 불순물 확산 방지





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