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제품
Semicorex는 중국의 전문 제조업체 및 공급업체입니다. 우리 공장에서는 배럴 서셉터, mocvd 서셉터, 웨이퍼 보트 등을 제공합니다. 극단적인 디자인, 고품질 원자재, 고성능 및 경쟁력 있는 가격은 모든 고객이 원하는 것이며, 이것이 바로 우리가 귀하에게 제공할 수 있는 것입니다. 우리는 높은 품질, 합리적인 가격 및 완벽한 서비스를 제공합니다.
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LPE 에피택셜 성장을 위한 SiC 코팅 배럴 서셉터
LPE 에피택셜 성장을 위한 Semicorex SiC 코팅 배럴 서셉터는 장기간에 걸쳐 일관되고 안정적인 성능을 제공하도록 설계된 고성능 제품입니다. 균일한 열 프로필, 층류 가스 흐름 패턴 및 오염 방지 기능을 통해 웨이퍼 칩의 고품질 에피택셜 레이어를 성장시키는 데 이상적인 선택입니다. 맞춤화 가능성과 비용 효율성으로 인해 시장에서 경쟁력이 매우 높은 제품입니다.
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배럴 수신기 Epi 시스템
Semicorex Barrel Susceptor Epi System은 우수한 코팅 접착력, 고순도, 고온 산화 저항성을 제공하는 고품질 제품입니다. 균일한 열 프로필, 층류 가스 흐름 패턴 및 오염 방지 기능을 통해 웨이퍼 칩의 에픽시얼 레이어 성장에 이상적인 선택입니다. 비용 효율성과 사용자 정의 가능성으로 인해 시장에서 경쟁력이 매우 높은 제품입니다.
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액상 에피택시(LPE) 반응기 시스템
Semicorex LPE(액상 에피택시) 반응기 시스템은 뛰어난 열 성능, 균일한 열 프로파일 및 우수한 코팅 접착력을 제공하는 혁신적인 제품입니다. 고순도, 고온 내산화성 및 내식성은 반도체 산업에 사용하기에 이상적인 선택입니다. 맞춤형 옵션과 비용 효율성으로 인해 시장에서 경쟁력이 매우 높은 제품입니다.
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배럴 반응기의 CVD 에피택셜 증착
배럴 반응기의 Semicorex CVD 에피택셜 증착은 웨이퍼 칩의 에피시얼 레이어를 성장시키기 위한 내구성이 뛰어나고 안정적인 제품입니다. 고온 내산화성과 고순도 덕분에 반도체 산업에 사용하기에 적합합니다. 균일한 열 프로파일, 층류 가스 흐름 패턴 및 오염 방지 기능을 갖추고 있어 고품질 에픽시얼 레이어 성장을 위한 이상적인 선택입니다.
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배럴 반응기의 실리콘 에피택셜 증착
반도체 제조 응용 분야에 사용하기 위해 고성능 흑연 서셉터가 필요한 경우 배럴 반응기의 Semicorex Silicon Epitaxis Deposition이 이상적인 선택입니다. 고순도 SiC 코팅과 탁월한 열 전도성은 탁월한 보호 및 열 분산 특성을 제공하므로 가장 까다로운 환경에서도 안정적이고 일관된 성능을 발휘할 수 있는 선택입니다.
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유도 가열 배럴 Epi 시스템
탁월한 열전도율과 열 분포 특성을 갖춘 흑연 서셉터가 필요한 경우 Semicorex 유도 가열 배럴 Epi 시스템을 찾아보십시오. 고순도 SiC 코팅은 고온 및 부식성 환경에서 탁월한 보호 기능을 제공하므로 반도체 제조 응용 분야에 사용하기에 이상적인 선택입니다.
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