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SiC 진공 척

SiC 진공 척

Semicorex SiC 진공 척은 까다로운 반도체 산업에 맞춰진 정밀 엔지니어링의 정점을 나타냅니다. 흑연 기판으로 제작되고 최첨단 CVD(화학 기상 증착) 기술을 통해 강화된 이 혁신적인 장치는 탄화규소(SiC) 코팅의 비교할 수 없는 특성을 완벽하게 통합합니다. Semicorex는 경쟁력 있는 가격으로 고품질 제품을 제공하기 위해 최선을 다하고 있으며 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 기대합니다.

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제품 설명

Semicorex SiC 진공 척은 중요한 처리 단계에서 최고의 안정성과 신뢰성으로 반도체 웨이퍼를 안전하게 고정하기 위해 특별히 설계된 도구입니다. SiC 진공 척의 CVD SiC 코팅은 탁월한 기계적 강도, 내화학성 및 열 안정성을 제공하여 섬세한 웨이퍼를 잠재적인 손상이나 오염으로부터 보호합니다.

SiC 진공척은 흑연과 SiC 코팅의 독특한 조합으로 높은 열 전도성과 최소 열팽창 계수를 제공합니다. 이를 통해 효율적인 열 방출과 웨이퍼 표면 전체의 균일한 온도 분포가 가능합니다. 이러한 기능은 반도체 제조 공정에서 최적의 공정 조건을 유지하고 수율을 높이는 데 필수적입니다.

SiC 진공 척은 진공 환경과도 호환되므로 척과 웨이퍼 사이의 우수한 접착력을 보장합니다. 이는 고정밀 작업 중에 미끄러짐이나 정렬 불량의 위험을 제거합니다. 비다공성 표면과 불활성 특성으로 인해 가스 방출이나 입자 오염이 더욱 방지되어 반도체 제조 환경의 순도와 무결성이 보호됩니다.

Semicorex SiC 진공 척은 반도체 제조의 초석 기술로, 업계의 진화하는 요구 사항을 충족할 수 있는 탁월한 성능과 내구성을 제공합니다. 리소그래피, 에칭, 증착 또는 기타 중요한 공정에 사용되는 이 고급 솔루션은 반도체 웨이퍼 처리 및 처리 분야의 우수성에 대한 표준을 지속적으로 재정의하고 있습니다.



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