제품

Semicorex SiC 코팅 에피택시 디스크는 첨단 반도체 장치의 성공을 위해 장비의 정밀도, 내구성 및 견고성이 가장 중요한 반도체 제조에 없어서는 안 될 구성 요소가 되는 광범위한 특성을 가지고 있습니다. Semicorex는 품질과 비용 효율성을 융합한 고성능 SiC 코팅 에피택시 디스크를 제조 및 공급하는 데 전념하고 있습니다.**

Semicorex SiC Diffusion Furnace Tube는 높은 굽힘 강도, 탁월한 산화 및 내식성, 높은 내마모성, 낮은 마찰 계수, 우수한 고온 기계적 특성, 초고순도 등 고급 소재 특성을 갖추고 있어 반도체 산업에서 없어서는 안될 필수 요소입니다. 특히 확산로 용도에 적합합니다. Semicorex는 품질과 비용 효율성을 융합한 고성능 SiC 확산로 튜브를 제조 및 공급하는 데 전념하고 있습니다.**

고품질 재료 특성을 갖춘 Semicorex SiC 확산 보트는 경도, 탄력성, 열 및 화학적 저항성 등 광범위한 작동 매개변수에 걸쳐 최적의 기능을 나타냅니다. 이 재료 선택은 오염 위험을 줄이고 웨이퍼를 보호하며 환경을 견디는 데 중요합니다. 반도체 제조 공정에 존재하는 까다로운 조건. Semicorex는 품질과 비용 효율성을 융합한 고성능 SiC 확산 보트를 제조 및 공급하는 데 전념하고 있습니다.**

Semicorex SiC 반사경은 다양한 반도체 제조 공정에서 중추적인 요소입니다. Semicorex는 고품질 제품을 경쟁력 있는 가격으로 제공하기 위해 최선을 다하고 있으며 중국*에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 기대합니다.

SiC를 주재료로 하는 Semicorex SiC 세라믹 열전달 판은 2250°C에서 고온 소결을 거쳐 SiC 함량이 99.3% 이상인 고도로 유리화된 다공성이 없는 고밀도 세라믹 본체가 생성됩니다. 410MPa 이상의 굽힘 강도와 140W/m.k의 열전도율을 나타내는 이 세라믹은 반도체 산업에서 불산(HF), 황산(H2SO4)과 같은 강산에 대한 부식을 견딜 수 있는 유일한 소재입니다. Semicorex는 품질과 비용 효율성을 융합한 고성능 SiC 세라믹 열전달 판을 제조 및 공급하는 데 전념하고 있습니다. **

ICP Etch용 Semicorex SiC 서셉터는 높은 수준의 품질과 일관성을 유지하는 데 중점을 두고 제조됩니다. 이러한 서셉터를 만드는 데 사용되는 강력한 제조 공정은 각 배치가 엄격한 성능 기준을 충족하여 반도체 에칭에서 안정적이고 일관된 결과를 제공하도록 보장합니다. 또한 Semicorex는 빠른 납품 일정을 제공할 수 있는 장비를 갖추고 있으며 이는 반도체 산업의 빠른 처리 요구에 부응하여 품질 저하 없이 생산 일정을 충족하는 데 중요합니다. Semicorex는 고성능 제품을 제조하고 공급하는 데 전념하고 있습니다. 품질과 비용 효율성을 융합한 ICP 식각용 SiC 서셉터.**