고품질 재료 특성을 갖춘 Semicorex SiC 확산 보트는 경도, 탄력성, 열 및 화학적 저항성 등 광범위한 작동 매개변수에 걸쳐 최적의 기능을 나타냅니다. 이 재료 선택은 오염 위험을 줄이고 웨이퍼를 보호하며 환경을 견디는 데 중요합니다. 반도체 제조 공정에 존재하는 까다로운 조건. Semicorex는 품질과 비용 효율성을 융합한 고성능 SiC 확산 보트를 제조 및 공급하는 데 전념하고 있습니다.**
SiC 확산 보트의 장점을 자세히 살펴보겠습니다.
구조적 안정성 및 열 저항: Semicorex SiC 확산 보트는 고온에서 탁월한 열 안정성과 치수 무결성을 제공하므로 고온 처리 및 열처리 응용 분야에 사용하기에 매우 유리합니다.
뛰어난 내식성: SiC 확산 보트는 뛰어난 내식성을 보여 가혹한 화학적 및 환경 조건에서도 장기간 성능을 보장합니다.
고순도 소재: SiC 확산 보트는 고순도 매트릭스와 탄화규소 필름으로 제작되어 제조 공정에서 불순물 유입을 효과적으로 방지하고 오염을 줄입니다. 이러한 높은 순도는 제품 품질 향상에 크게 기여합니다.
저밀도: SiC 확산 보트는 다른 많은 재료에 비해 밀도가 상대적으로 낮기 때문에 취급 및 처리 중에 가볍고 쉽게 관리할 수 있습니다.
다양한 응용 분야: SiC 확산 보트는 특히 웨이퍼 처리 공정에서 광전지 및 반도체 장비의 중요한 하중 지지 부품에 매우 적합합니다.
반도체 수직형 용해로에서의 활용: Semicorex SiC 확산 보트는 주로 고온 산화 및 어닐링 공정을 위한 반도체 수직형 용해로에 사용됩니다. 이 응용 프로그램은 이러한 특정 반도체 제조 절차를 촉진하는 데 있어 중요한 역할을 강조합니다.