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SiC 세라믹 웨이퍼 보트

SiC 세라믹 웨이퍼 보트

Semicorex SiC 세라믹 웨이퍼 보트는 웨이퍼 무결성을 보호하고 고성능 장치에 필요한 순도를 보장하면서 고온 처리를 위한 확고한 플랫폼을 제공하는 중요한 구현 기술로 부상했습니다. 이는 정밀성을 기반으로 하는 반도체 및 광전지 산업에 맞춰 제작되었습니다. 증착부터 확산까지 웨이퍼 처리의 모든 측면에는 세심한 제어와 깨끗한 환경이 필요합니다. Semicorex는 품질과 비용 효율성을 융합한 고성능 SiC 세라믹 웨이퍼 보트를 제조 및 공급하는 데 전념하고 있습니다.**

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제품 설명

Semicorex SiC 세라믹 웨이퍼 보트는 엄격한 반도체 및 광전지 제조에 이상적으로 적합한 재료 특성의 고유한 조합을 통해 차별화됩니다.


흔들리지 않는 고온 안정성:웨이퍼 처리에는 기존 재료를 한계까지 밀어붙이는 극한의 온도가 수반되는 경우가 많습니다. SiC 세라믹 웨이퍼 보트는 뛰어난 고온 저항성을 보여 1650°C(3000°F)를 초과하는 온도에서도 구조적 무결성과 기계적 특성을 유지합니다. 이를 통해 정확한 온도 제어와 웨이퍼 안정성이 가장 중요한 확산 및 어닐링과 같은 중요한 공정에 사용할 수 있습니다.


부식에 강한 난공불락의 요새:반도체 및 광전지 제조에 사용되는 가혹한 화학 물질과 공격적인 물질은 재료 무결성에 심각한 문제를 제기합니다. SiC 세라믹 웨이퍼 보트는 대부분의 금속 및 기타 세라믹에 비해 내식성이 뛰어나며 광범위한 산, 용제, 염분 및 유기 화합물에 장기간 노출되는 것을 견뎌냅니다. 이러한 불활성은 보트의 수명을 보장하고 재료 품질 저하로 인한 오염을 방지하며 중요한 공정 단계의 순도를 보호합니다.


타협할 수 없는 순수함을 위한 손쉬운 청결함:높은 장치 수율과 성능을 달성하려면 깨끗한 웨이퍼 표면을 유지하는 것이 무엇보다 중요합니다. SiC 세라믹 웨이퍼 보트의 표면은 비다공성이며 화학적 공격에 대한 저항성은 매우 쉽게 청소할 수 있습니다. 오염물질을 쉽게 제거하여 공정 간 교차 오염을 방지하고 고성능 반도체 및 광전지 장치에 필요한 깨끗한 환경을 보장합니다.


열적 및 기계적 스트레스에 대한 탄력성:웨이퍼 처리에는 응력을 유발하고 민감한 재료를 손상시킬 수 있는 급격한 온도 변화와 기계적 취급이 포함되는 경우가 많습니다. 높은 경도와 탁월한 열충격 저항성을 포함한 SiC 세라믹 웨이퍼 보트의 견고한 기계적 특성은 까다로운 조건에서도 구조적 무결성을 보장합니다. 이는 파티클 생성이나 웨이퍼 손상 위험을 최소화하여 더 높은 수율과 일관된 제품 품질에 기여합니다.


흔들리지 않는 정밀도를 위한 미끄러짐 없는 운송:정확한 웨이퍼 핸들링은 손상을 방지하고 일관된 처리를 보장하는 데 중요합니다. SiC 세라믹 웨이퍼 보트의 고유한 윤활성과 낮은 마찰 계수는 자연스럽게 미끄러짐 없는 표면을 만듭니다. 이를 통해 로딩 및 언로딩 중에 원활하고 제어된 웨이퍼 이동이 가능하며 긁힘, 치핑 또는 웨이퍼 무결성을 손상시킬 수 있는 기타 손상의 위험을 최소화합니다.



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