SiC 코팅 팬케이크 서셉터

세미코렉스SiC 코팅팬케이크 서셉터(Pancake Susceptor)는 금속 유기 화학 기상 증착 MOCVD 시스템에 설치하기 위한 차세대 부품입니다. 이러한 시스템은 에피택셜 층이 다양한 기판에 증착되는 메커니즘의 중요한 부분을 형성합니다. 여기에 표시된 특수 서셉터는 주로 LED, 고전력 장치 및 RF 장치 제조를 위한 반도체 응용 분야에만 사용됩니다. 이러한 응용 분야에 사용되는 기판에는 사파이어 또는 전도성 및 반절연 SiC와 같은 재료에 형성할 수 있는 에피택셜 층이 필요한 경우가 많습니다. 이 SiC 코팅 팬케이크 서셉터는 효율적이고 신뢰할 수 있으며 정밀한 증착을 통해 MOCVD 반응기에서 탁월한 성능을 제공합니다.

이 제품은 뛰어난 재료 특성, 견고한 구조, 특정 MOCVD 공정에 맞게 맞춤화할 수 있는 능력으로 반도체 업계에서 유명합니다. 전력 및 RF 애플리케이션에서 고품질 에피택셜 레이어에 대한 수요가 증가함에 따라 Semicorex를 선택하면 최적의 성능과 긴 서비스 수명을 제공하는 최고급 제품이 보장됩니다. 이 서셉터는 반도체 웨이퍼의 베이스로, 반도체에 에피층을 증착하는 공정에 적용됩니다. 층은 LED, HEMT 및 SBD 및 MOSFET과 같은 전력 반도체 장치를 포함하는 장치의 제조에 사용될 수 있습니다. 이러한 장치는 현대 통신, 고전력 전자 및 광전자 응용 분야에 매우 중요합니다.

특징 및 이점

1. 높은 열전도율과 균일한 열분포

SiC 코팅 팬케이크 서셉터의 주요 특징 중 하나는 탁월한 열 전도성입니다. 이 소재는 MOCVD 공정 중에 균일한 열 분포를 제공하며, 이는 반도체 웨이퍼의 에피택셜 층을 균일하게 성장시키는 데 중요합니다. 높은 열 전도성은 웨이퍼 기판이 균일하게 가열되도록 보장하여 온도 구배를 최소화하고 증착된 층의 품질을 향상시킵니다. 그 결과 균일성이 향상되고 재료 특성이 향상되며 전반적인 수율이 높아집니다.

2. SiC 코팅내구성 강화를 위해

SiC 코팅은 MOCVD 공정 중 흑연 서셉터의 마모 및 열화에 대한 강력한 솔루션을 제공합니다. 코팅은 증착 공정에 사용되는 금속-유기 전구체의 부식에 대한 높은 저항성을 제공하여 서셉터의 수명을 크게 연장합니다. 또한 SiC 층은 에피택셜 층의 무결성과 순도를 보장하는 중요한 요소인 흑연 먼지가 웨이퍼를 오염시키는 것을 방지합니다.

또한 코팅은 서셉터의 전반적인 기계적 강도를 향상시켜 MOCVD 공정에서 흔히 발생하는 고온, 열 순환 및 기계적 응력에 대한 내성을 더욱 강화합니다. 이로 인해 작동 수명이 길어지고 유지 관리 비용이 절감됩니다.

3. 높은 융점 및 내산화성

SiC 코팅 팬케이크 서셉터는 극한의 온도에서 작동하도록 설계되었으며, SiC 코팅은 고온에서 산화 및 부식에 대한 저항성을 보장합니다. 코팅의 높은 융점 덕분에 서셉터는 구조적 무결성을 저하하거나 잃지 않고 MOCVD 반응기에서 일반적으로 발생하는 높은 온도를 견딜 수 있습니다. 이 속성은 처리량이 많은 반도체 제조 환경에서 장기적인 신뢰성을 보장하는 데 특히 중요합니다.

4. 우수한 표면 평탄도

SiC 코팅 팬케이크 서셉터의 표면 평탄도는 에피택셜 성장 공정 중 웨이퍼의 적절한 위치 지정과 균일한 가열에 매우 중요합니다. 코팅은 웨이퍼가 제자리에 균일하게 고정되도록 부드럽고 평평한 표면을 제공하여 증착 공정의 불일치를 방지합니다. 이러한 높은 수준의 평탄도는 균일성이 장치 성능에 필수적인 LED 및 전력 반도체와 같은 고정밀 장치의 성장에 특히 중요합니다.

5. 높은 결합강도 및 열적합성

SiC 코팅과 흑연 기판 사이의 결합 강도는 재료의 열적합성에 의해 향상됩니다. SiC 층과 흑연 베이스의 열팽창 계수는 밀접하게 일치하므로 온도 사이클링 시 균열이나 박리 위험이 줄어듭니다. 이 특성은 MOCVD 공정에서 반복적인 가열 및 냉각 주기 동안 서셉터의 구조적 무결성을 유지하는 데 필수적입니다.

6. 다양한 용도에 맞게 사용자 정의 가능

Semicorex는 반도체 산업의 다양한 요구 사항을 이해하고 있으며 SiC 코팅 팬케이크 서셉터는 특정 공정 요구 사항을 충족하도록 맞춤화할 수 있습니다. LED 생산, 전력 장치 제조, RF 부품 제조 등 어떤 용도로 사용하든 서셉터는 다양한 웨이퍼 크기, 모양 및 열 요구 사항에 맞게 맞춤화될 수 있습니다. 이러한 유연성 덕분에 SiC 코팅 팬케이크 서셉터는 반도체 산업의 광범위한 응용 분야에 적합합니다.

반도체 제조에 적용

SiC 코팅 팬케이크 서셉터는 고품질 에피층 성장을 위한 필수 기술인 MOCVD 시스템에 주로 사용됩니다. 서셉터는 LED, 전력반도체소자, RF소자 등의 소자 생산에 사용되는 사파이어, 탄화규소(SiC), GaN 등 다양한 반도체 기판을 지지한다. SiC 코팅 팬케이크 서셉터의 우수한 열 관리 및 내구성은 이러한 장치가 현대 전자 장치의 까다로운 성능 요구 사항을 충족하도록 제조되었음을 보장합니다.

LED 생산에서 SiC 코팅 팬케이크 서셉터는 사파이어 기판에 GaN 층을 성장시키는 데 사용됩니다. 여기서 높은 열 전도성은 에피택셜 층이 균일하고 결함이 없도록 보장합니다. MOSFET 및 SBD와 같은 전력 장치의 경우 서셉터는 높은 전류 및 전압을 처리하는 데 필수적인 SiC 에피택셜 층의 성장에 중요한 역할을 합니다. 마찬가지로, RF 장치 생산에서 SiC 코팅 팬케이크 서셉터는 반절연 SiC 기판에서 GaN 층 성장을 지원하여 통신 시스템에 사용되는 HEMT 제작을 가능하게 합니다.

SiC 코팅 팬케이크 서셉터 요구 사항에 맞게 Semicorex를 선택하면 품질, 성능 및 내구성에 대한 업계 표준을 충족할 뿐만 아니라 이를 초과하는 제품을 얻을 수 있습니다. 정밀 엔지니어링, 우수한 재료 선택 및 사용자 정의 가능성에 중점을 둔 Semicorex의 제품은 MOCVD 시스템에서 최적의 성능을 제공하도록 설계되었습니다. 당사의 서셉터는 생산 공정을 간소화하여 고품질 에피택셜 레이어를 보장하고 가동 중지 시간을 최소화하는 데 도움이 됩니다. Semicorex를 통해 귀하는 반도체 제조 분야의 성공을 위해 헌신하는 신뢰할 수 있는 파트너를 얻게 됩니다.