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MOCVD용 실리콘 카바이드 코팅 흑연 서셉터

MOCVD용 실리콘 카바이드 코팅 흑연 서셉터

Semicorex는 MOCVD용 탄화규소 코팅 흑연 서셉터의 신뢰할 수 있는 공급업체이자 제조업체입니다. 당사의 제품은 웨이퍼 칩의 에피택셜 층을 성장시키는 반도체 산업의 요구를 충족하도록 특별히 설계되었습니다. MOCVD에서 센터 플레이트로 사용되는 제품으로 기어 또는 링 형태의 디자인을 갖고 있습니다. 내열성과 내식성이 뛰어나 극한 환경에서 사용하기에 이상적입니다.

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제품 설명

당사의 MOCVD용 탄화규소 코팅 흑연 서셉터는 경쟁 제품과 차별화되는 몇 가지 주요 기능을 갖추고 있습니다. 모든 표면에 코팅이 벗겨짐을 방지하고, 고온 내산화성을 갖춰 최대 1600°C의 고온에서도 안정성을 보장합니다. 고온 염소화 조건에서 CVD 화학 기상 증착을 통해 고순도 제품으로 만들어졌습니다. 미세한 입자로 표면이 치밀하여 산, 알칼리, 염분, 유기시약에 대한 부식에 대한 저항성이 뛰어납니다.
MOCVD용 탄화규소 코팅 흑연 서셉터는 최상의 층류 가스 흐름 패턴을 달성하도록 설계되어 열 프로파일의 균일성을 보장합니다. 오염이나 불순물 확산을 방지하여 웨이퍼 칩의 고품질 에피택셜 성장을 보장합니다.


MOCVD용 실리콘 카바이드 코팅 흑연 서셉터의 매개변수

CVD-SIC 코팅 주요 사양

SiC-CVD 속성

결정 구조

FCC β상

밀도

g/cm ³

3.21

경도

비커스 경도

2500

입자 크기

μm

2~10

화학적 순도

%

99.99995

열용량

Jkg-1 K-1

640

승화 온도

2700

굽힘 강도

MPa(RT 4점)

415

영률

Gpa (4pt 굴곡, 1300℃)

430

열팽창(C.T.E)

10-6K-1

4.5

열전도율

(W/mK)

300


MOCVD용 실리콘 카바이드 코팅 흑연 서셉터의 특징

- 벗겨짐을 방지하고 모든 표면에 코팅을 보장합니다.
고온 내산화성: 최대 1600°C의 고온에서 안정적
고순도: 고온 염소화 조건에서 CVD 화학 기상 증착으로 만들어졌습니다.
내식성: 높은 경도, 조밀한 표면 및 미세한 입자.
내식성: 산, 알칼리, 염분 및 유기 시약.
- 최상의 층류 가스 흐름 패턴 달성
- 열 프로파일의 균일성 보장
- 오염이나 불순물 확산 방지




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