8 인치 EPI 상단 링

Semicorex 8 인치 EPI 상단 링은 반응 챔버의 상단 커버 링으로서 고성능을 제공하는 에피 택셜 (EPI) 증착 시스템의 특수 성분입니다. 반도체 웨이퍼의 상피 성장 동안 구조적 무결성 및 열 안정성에 중점을 둔 EPI 상단 링은 고급 흑연으로 만들어지고 SIC (Silicon Carbide)로 코팅되어 반도체 제조의 온도 및 화학적 반응성 환경을 견딜 수 있습니다.

에피 택셜 반응기에서, 상단 링은 웨이퍼 환경을 유지하는 데 도움이되며 감수자 어셈블리의 일환으로 증착 동안 온도 균일 성 및 가스 흐름에 중요한 역할을한다. 흑연 기판의 SIC 코팅은 EPI 상단 링의 성능 (수소, 실란, 클로로 실란 등)의 성능 동안 가스 가스에 노출되어 흑연 코어를 보호하는 데 필요한 열 안정성 및 불활성 환경을 갖는 EPI 상단 링을 제공합니다. SIC 층의 경도 및 전도도는 분해를 방지하고 생산주기 동안보다 안정적인 층을 허용함으로써 EPI 상단 링의 성능을 향상시킨다.

차원 정확도, 코팅 일관성 및 반복성에 대한 약속으로 8 인치 EPI 상단 링은 정밀 엔지니어링으로 제조됩니다. 흑연 기판은 단단한 공차로 가공되고 열 정제되어 불순물을 분리하여 순도와 강도가 우수한 깨끗한 기판을 전달시킨다. SIC 코팅은 화학 증기 증착 (CVD)을 통해 적용되어 조밀하고 일관성 있고 강하게 결합 된 보호 층을 형성한다. 이 공정은 입자 생성을 최소화하고 코팅이 연장 된 사용 중에 표면 무결성을 유지할 수 있도록합니다.

반도체 제조업체는 EPI 상단 링에 의존하여 생산 중에 중요한 챔버 매개 변수를 유지하고 결함없는 웨이퍼를 지원합니다. 구성은 선행 OEM 8 인치 웨이퍼 처리 시스템과 함께 사용하도록 설계되었습니다. 더 나은 열 관리 또는 가스 분포를 위해 두께, 표면 마감 및 그루브 디자인에 맞춤 옵션을 사용할 수 있습니다.

이 애플리케이션에 대한 SIC 코팅 흑연의 특성을 준수하는 것은 두 재료의 최상의 특성을 조합합니다. 흑연은 가공 가능하며 실리콘 탄화물과 결합 된 열 충격 저항력이있어 더 단단하고 부식성이 있으며 서비스 수명이 길어집니다. 이 조합은 궁극적으로 고온에서 신뢰할 수있는 EPI 상단 링을 제공하며 유지 보수 간격을 줄이고 전체 향상된 장비 가동 시간을 제공하는 깨끗하고 안정적인 처리 환경을 보장합니다.

흑연 구성 요소는 반도체 제조에서 필수적이고 중요한 역할을합니다. 흑연 재료의 품질은 완제품의 품질에 크게 영향을 미칩니다. 우리의 흑연 배치 일관성 및 재료 균질성은 생산 공정 전반에 걸쳐 제어되고 보장됩니다.

1. 용량이 50 입방 미터 인 소형 탄화 용광로를 사용하는 공세 배치 생산.

2. 각 재료 조각은 모니터링되고 추적됩니다.

3. 용광로 내의 여러 지점에서 온도 모니터링은 온도 차이를 최소화합니다.

4. 물질의 여러 지점에서 온도 모니터링은 온도 차이를 최소화합니다.

Semicorex의 8 인치 EPI 상단 링은 가장 어려운 반도체 실리콘, 실리콘 카바이드 또는 기타 화합물 반도체 에피 택시 프로세스에서 탁월한 성능, 배치 투 배치 일관성 및 입증 된 신뢰성을 제공합니다. 모든 제조 단계에서 우리는 품질 관리가있는 제품을 생산합니다. 즉, 반도체 산업을 위해 구매 한 모든 제품이 품질 사양을 초과합니다.

정밀 엔지니어링, 우수한 재료 및 수율 및 장치 성능 향상을위한 애플리케이션 별 사용자 정의를 통해 제공되는 가능성을 활용하려면 Epitaxy Application을 위해 Semicorex의 8 인치 EPI 상단 링을 선택하십시오.