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8 인치 웨이퍼 홀더 링
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8 인치 웨이퍼 홀더 링

Semicorex 8 인치 웨이퍼 홀더 링은 공격적인 열 및 화학 환경에서 정확한 웨이퍼 고정 및 탁월한 성능을 제공하도록 설계되었습니다. Semicorex는 애플리케이션-특이 적 엔지니어링, 타이트한 차원 제어 및 일관된 SIC 코팅 품질을 제공하여 고급 반도체 처리의 엄격한 요구를 충족시킵니다.*.

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제품 설명

Semicorex 8 인치 웨이퍼 링 링은 중요한 열, 에칭 및 증착 공정을 통해 실리콘 웨이퍼를 안전하게 보호하고 지원하기위한 최첨단 반도체 처리 하드웨어입니다. 조밀 한 고품질 흑연으로 구성됩니다실리콘 카바이드 코팅 (sic)강도를 높이기 위해, 웨이퍼 홀더 링은 우수한 열 안정성, 화학 저항 및 기계적 강도를 생성하여 CVD (화학 증기 증착), PECV 및 에피 택시 시스템과 같은 고온 및 부식성 환경에서 사용하기에 이상적입니다.


주요 기능 :


재료 구성 :

기판 재료입니다고순도 흑연높은 열전도율 및 구조적 동질성을 위해 선택됩니다. 고밀도 및 균일실리콘 카바이드 (SIC) 필름 코팅표면에 적용되어 1000 ° C를 초과하는 고온에서도 산화 및 화학 공격에 대한 높은 저항성을 나타냅니다. 혼합물에는 장기간의 유통 기간이 있으며 웨이퍼의 오염 위험이 최소화됩니다.


안전한 웨이퍼 포지셔닝

특히 8 인치 (200mm) 웨이퍼를 유지하도록 설계된 웨이퍼 홀더 링은 정확한 공차와 최적으로 설계된 내부 지오메트리를 보유하여 웨이퍼를 안전하게 잡을 수 있습니다. 링은 열 사이클링 및 가스 흐름 동안 위치에서 안정적으로 유지되어 입자 생성 또는 웨이퍼 파손을 초래할 수있는 미세 운동을 최소화합니다.


열 균일 성 :

흑연 기판의 고유 한 열전도율 및 SIC 코팅의 안정성은 웨이퍼 표면에서 일관된 열 전달을 보장합니다. 이로 인해 일관된 공정 결과, 열 응력 감소 및 더 나은 장치 수율이 발생합니다.


화학 및 혈장 저항성 :

SIC 표면은 가혹한 공정 플라즈마 및 가스로부터 흑연 코어를 보호하여 반복 된 공정주기에 대한 저항을 제공합니다. 화학적 불활성은 특히 부식성 할로겐 함유 에센트 또는 반응성 가스 환경에서 유익합니다.


사용 가능한 사용자 정의 :

8 인치 웨이퍼 홀더 링은 특정 장비 또는 프로세스 요구 사항, 즉 에지지지 설계의 변형, 슬롯 위치 및 장착 구성의 변형을 충족하도록 맞춤형 디자인 할 수 있습니다. 우리의 디자이너는 OEM 및 팹과 협력하여 각 사용에 대해 가능한 최고 성능을 제공합니다.


응용 프로그램 :



  • LPCVD / PECVD / APCVD
  • 에피 택셜 성장 과정
  • 확산 용광로
  • 고온 어닐링
  • 기타 반도체 열 처리 시스템



8 인치 웨이퍼 홀더 링은 치수 정확도 검증, 코팅 접착 테스트 및 열 사이클링 자격과 같은 엄격한 검사를받습니다. 우리의 고급 제조 기술은 반도체 산업의 높은 수요를 충족시키기 위해 균일 한 SIC 코팅 두께와 최고의 표면 마감을 보장합니다.


Semicorex 8 인치 웨이퍼 홀더 링 (SIC 코팅 흑연)은 차세대 반도체 생산을위한 필수 장비로 기계적 정밀도, 재료 내구성 및 화학적 안정성을 제공합니다. 프로세스 장비 업그레이드에서 차세대 웨이퍼 플랫폼의 구성에 이르기 까지이 제품은 오늘날의 까다로운 생산 환경을 가능하게하는 데 필요한 신뢰성과 성능을 제공합니다.


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