흑연 에피택시 및 웨이퍼 처리 공정에 완벽한 Semicorex 초순수 단결정 실리콘 에피택시 서셉터는 최소한의 오염을 보장하고 예외적으로 긴 수명 성능을 제공합니다. 우리의 제품은 좋은 가격 이점을 가지고 있으며 많은 유럽 및 미국 시장을 커버합니다. 우리는 중국에서 당신의 장기적인 파트너가 되기를 기대합니다.
Semicorex Monocrystalline Silicon Epitaxial Susceptor는 내열성 및 내식성이 우수한 고순도 SiC를 코팅한 흑연 제품입니다. 반도체 웨이퍼에 에피층을 형성하는 공정에 사용되는 CVD 탄화규소 코팅 캐리어로 열전도율이 높고 열분산 특성이 우수합니다.
당사의 단결정 실리콘 에피택셜 서셉터는 최상의 층류 가스 흐름 패턴을 달성하도록 설계되어 균일한 열 프로필을 보장합니다. 이는 오염이나 불순물 확산을 방지하여 웨이퍼 칩에서 고품질 에피택셜 성장을 보장합니다.
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단결정 실리콘 에피택셜 서셉터의 매개변수
CVD-SIC 코팅의 주요 사양 |
||
SiC-CVD 속성 |
||
결정 구조 |
FCC β 단계 |
|
밀도 |
g/cm ³ |
3.21 |
경도 |
비커스 경도 |
2500 |
입자 크기 |
μm |
2~10 |
화학적 순도 |
% |
99.99995 |
열용량 |
J·kg-1·K-1 |
640 |
승화 온도 |
℃ |
2700 |
쇠약한 힘 |
MPa(RT 4점) |
415 |
영률 |
GPA (4pt 굽힘, 1300â) |
430 |
열팽창(C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
열 전도성 |
(W/mK) |
300 |
단결정 실리콘 에피택셜 서셉터의 특징
- 흑연 기판과 실리콘 카바이드 층 모두 밀도가 좋으며 고온 및 부식성 작업 환경에서 우수한 보호 역할을 할 수 있습니다.
- 단결정 성장에 사용되는 탄화 규소 코팅 서셉터는 표면 평탄도가 매우 높습니다.
- 흑연 기판과 실리콘 카바이드 층 사이의 열팽창 계수 차이를 줄이고 접착 강도를 효과적으로 향상시켜 균열 및 박리를 방지합니다.
- 흑연 기판과 실리콘 카바이드 층 모두 열전도율이 높고 열분산 특성이 우수합니다.
- 고융점, 고온 내산화성, 내식성.