단결정 실리콘 웨이퍼 서셉터

Semicorex 단결정 실리콘 웨이퍼 서셉터는 흑연 에피택시 및 웨이퍼 처리 공정에 이상적인 솔루션입니다. 당사의 초순수 제품은 오염을 최소화하고 탁월한 긴 수명 성능을 보장하므로 많은 유럽 및 미국 시장에서 인기가 높습니다. 중국 내 선도적인 반도체 웨이퍼 캐리어 공급업체로서 당사는 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 기대하고 있습니다.

문의 보내기

제품 설명

당사의 단결정 실리콘 에피택셜 서셉터는 고순도 SiC로 코팅된 흑연 제품으로 내열성과 내식성이 우수합니다. CVD 탄화규소 코팅 캐리어는 반도체 웨이퍼에 에피택셜 층을 형성하는 공정에 사용됩니다. 효율적이고 정밀한 반도체 제조 공정에 필수적인 높은 열전도율과 우수한 열분포 특성을 갖추고 있습니다.
당사의 단결정 실리콘 웨이퍼 서셉터의 주요 특징 중 하나는 뛰어난 밀도입니다. 흑연 기판과 탄화 규소 층은 모두 밀도가 좋으며 고온 및 부식성 작업 환경에서 우수한 보호 역할을 할 수 있습니다. 단결정 성장에 사용되는 탄화규소 코팅 서셉터는 매우 높은 표면 평탄도를 가지며, 이는 고품질 웨이퍼 생산을 유지하는 데 필수적입니다.
우리 제품의 또 다른 중요한 특징은 흑연 기판과 탄화 규소 층 사이의 열팽창 계수 차이를 줄이는 능력입니다. 이는 접착 강도를 효과적으로 향상시켜 균열 및 박리를 방지합니다. 또한, 흑연 기판과 탄화규소 층 모두 높은 열 전도성과 우수한 열 분포 특성을 갖고 있어 제조 과정에서 열이 고르게 분산됩니다.
당사의 단결정 실리콘 웨이퍼 서셉터는 고온 산화 및 부식에도 강하므로 신뢰성 있고 내구성이 뛰어난 제품입니다. 융점이 높기 때문에 효율적인 반도체 제조에 필요한 고온 환경을 견딜 수 있습니다.
결론적으로, Semicorex 단결정 실리콘 웨이퍼 서셉터는 흑연 에피택시 및 웨이퍼 처리 공정을 위한 초순도, 내구성 및 신뢰성 있는 솔루션입니다. 뛰어난 밀도, 표면 평탄도 및 열 전도성으로 인해 고온 및 부식성 환경에서 사용하기에 이상적입니다. 우리는 경쟁력 있는 가격으로 고품질 제품을 제공하는 데 자부심을 갖고 있으며, 귀하의 모든 반도체 웨이퍼 캐리어 요구 사항에 대해 귀하와 협력하기를 기대합니다.

단결정 실리콘 웨이퍼 서셉터의 매개변수

CVD-SIC 코팅 주요 사양
SiC-CVD 속성
결정 구조	FCC β상
밀도	g/cm ³	3.21
경도	비커스 경도	2500
입자 크기	μm	2~10
화학적 순도	%	99.99995
열용량	Jkg-1 K-1	640
승화 온도	℃	2700
굽힘 강도	MPa(RT 4점)	415
영률	Gpa (4pt 굴곡, 1300℃)	430
열팽창(C.T.E)	10-6K-1	4.5
열전도율	(W/mK)	300

단결정 실리콘 웨이퍼 서셉터의 특징

- 벗겨짐을 방지하고 모든 표면에 코팅을 보장합니다.
고온 내산화성: 최대 1600°C의 고온에서 안정적
고순도: 고온 염소화 조건에서 CVD 화학 기상 증착으로 만들어졌습니다.
내식성: 높은 경도, 조밀한 표면 및 미세한 입자.
내식성: 산, 알칼리, 염분 및 유기 시약.
- 최상의 층류 가스 흐름 패턴 달성
- 열 프로파일의 균일성 보장
- 오염이나 불순물 확산 방지