에피택셜 성장용 플레이트

에피택시층 형성 중에 반도체 웨이퍼를 지지하는 정확한 작업을 위해 설계된 에피택셜 성장용 Semicorex 플레이트는 MOCVD(금속-유기 화학 기상 증착) 시스템에 없어서는 안 될 요소입니다. 그것의 전략적 역할은 에피택셜 필름의 균일하고 제어된 확장을 촉진하여 웨이퍼 표면 전반에 걸쳐 일관된 품질을 보장하는 것입니다.

1. 내구성을 염두에 두고 제작된 에피택셜 성장용 플레이트는 웨이퍼 이동이나 손상 가능성을 줄이는 견고한 플랫폼을 제공하여 에피택셜 필름 개발의 민감한 단계에서 웨이퍼의 무결성을 보호합니다. 에피택셜 성장용 플레이트는 지지체 역할을 할 뿐만 아니라 에피택시 중에 발생할 수 있는 공격적인 화학 반응과 마모로부터 기본 흑연을 보호하는 역할도 합니다.

2. 에피택셜 성장용 플레이트에 SiC 코팅을 적용하면 열적 특성이 크게 향상되어 균일한 에피택셜층 형성에 필수적인 신속하고 균형 잡힌 열 분산이 가능해집니다. 에피택셜 성장용 플레이트의 열을 균일하게 흡수하고 방출하는 능력은 우수한 품질의 에피택셜 레이어를 생산하는 데 필수적인 요소인 박막의 정확한 증착에 도움이 되는 열적으로 안정적인 환경을 보장하며, 이는 첨단 반도체의 효율성과 신뢰성이 좌우됩니다.

3. 미세한 SiC 결정을 코팅한 에피택셜 성장용 플레이트는 웨이퍼의 섬세한 핸들링에 중요한 흠집 없이 매끄러운 표면을 제공합니다. 공정 전반에 걸쳐 웨이퍼가 에피택셜 성장을 위해 플레이트 전체에 걸쳐 광범위하게 접촉하므로 이 깨끗한 인터페이스는 잠재적인 표면 오염을 최소화합니다.

요약하자면, 에피택시 성장을 위해 Semicorex 플레이트를 활용하면 꾸준한 성능과 연장된 서비스 수명을 보장하고 교체 빈도를 줄일 수 있습니다. 에피택셜 성장용 플레이트는 생산량을 크게 향상시켜 운영 중단 시간과 유지 관리 비용을 줄이는 동시에 생산 효율성을 높입니다.**