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제품
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SiC 코팅 ICP 구성 요소
Semicorex의 SiC 코팅 ICP 부품은 에피택시 및 MOCVD와 같은 고온 웨이퍼 처리 공정을 위해 특별히 설계되었습니다. 미세한 SiC 크리스탈 코팅을 갖춘 당사의 캐리어는 뛰어난 내열성, 균일한 열 균일성 및 내구성 있는 내화학성을 제공합니다.
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플라즈마 에칭 챔버용 고온 SiC 코팅
에피택시 및 MOCVD와 같은 웨이퍼 핸들링 공정에서는 Semicorex의 플라즈마 식각 챔버용 고온 SiC 코팅이 최고의 선택입니다. 당사의 캐리어는 미세한 SiC 크리스탈 코팅 덕분에 뛰어난 내열성, 균일한 열 균일성, 내구성 있는 내화학성을 제공합니다.
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ICP 플라즈마 에칭 트레이
Semicorex의 ICP 플라즈마 에칭 트레이는 에피택시 및 MOCVD와 같은 고온 웨이퍼 처리 공정을 위해 특별히 설계되었습니다. 최대 1600°C의 안정적인 고온 내산화성을 갖춘 당사의 캐리어는 균일한 열 프로필, 층류 가스 흐름 패턴을 제공하고 오염 또는 불순물 확산을 방지합니다.
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ICP 플라즈마 에칭 시스템
ICP 플라즈마 에칭 시스템을 위한 Semicorex의 SiC 코팅 캐리어는 에피택시 및 MOCVD와 같은 고온 웨이퍼 처리 공정을 위한 안정적이고 비용 효율적인 솔루션입니다. 당사의 캐리어는 우수한 내열성, 균일한 열 균일성 및 내구성 있는 내화학성을 제공하는 미세한 SiC 크리스탈 코팅을 특징으로 합니다.
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유도 결합 플라즈마(ICP)
Semicorex의 ICP(유도 결합 플라즈마)용 탄화규소 코팅 서셉터는 에피택시 및 MOCVD와 같은 고온 웨이퍼 처리 공정을 위해 특별히 설계되었습니다. 최대 1600°C의 안정적인 고온 내산화성을 갖춘 당사의 캐리어는 균일한 열 프로파일, 층류 가스 흐름 패턴을 보장하고 오염 또는 불순물 확산을 방지합니다.
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ICP 에칭 웨이퍼 홀더
Semicorex의 ICP 에칭 웨이퍼 홀더는 에피택시 및 MOCVD와 같은 고온 웨이퍼 처리 공정을 위한 완벽한 솔루션입니다. 최대 1600°C의 안정적인 고온 내산화성을 갖춘 당사의 캐리어는 균일한 열 프로파일, 층류 가스 흐름 패턴을 보장하고 오염 또는 불순물 확산을 방지합니다.
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