MOCVD용 Semicorex SiC 흑연 RTP 캐리어 플레이트는 뛰어난 내열성과 열 균일성을 제공하여 반도체 웨이퍼 처리 응용 분야에 완벽한 솔루션을 제공합니다. 고품질 SiC 코팅 흑연을 사용하는 이 제품은 에피택셜 성장을 위한 가장 가혹한 증착 환경을 견딜 수 있도록 설계되었습니다. 높은 열 전도성과 우수한 열 분포 특성은 RTA, RTP 또는 가혹한 화학 세척에 대한 안정적인 성능을 보장합니다.
더 읽어보기문의 보내기에피택셜 성장을 위한 Semicorex SiC 코팅 RTP 캐리어 플레이트는 반도체 웨이퍼 처리 응용 분야를 위한 완벽한 솔루션입니다. 흑연, 세라믹 등의 표면에 MOCVD 가공된 고품질 탄소 흑연 서셉터와 석영 도가니를 갖춘 이 제품은 웨이퍼 핸들링 및 에피택셜 성장 처리에 이상적입니다. SiC 코팅 캐리어는 높은 열 전도성과 우수한 열 분포 특성을 보장하므로 RTA, RTP 또는 가혹한 화학 세척에 신뢰할 수 있는 선택입니다.
더 읽어보기문의 보내기MOCVD 에피택셜 성장을 위한 Semicorex RTP 캐리어는 에피택셜 성장 및 웨이퍼 핸들링 처리를 포함한 반도체 웨이퍼 처리 응용 분야에 이상적입니다. 탄소 흑연 서셉터 및 석영 도가니는 흑연, 세라믹 등의 표면에서 MOCVD로 가공됩니다. 당사의 제품은 가격 우위가 뛰어나며 많은 유럽 및 미국 시장을 포괄합니다. 우리는 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 기대하고 있습니다.
더 읽어보기문의 보내기Semicorex의 ICP 에칭 프로세스용 SiC 플레이트는 박막 증착 및 웨이퍼 핸들링에서 고온 및 가혹한 화학 처리 요구 사항을 위한 완벽한 솔루션입니다. 당사 제품은 우수한 내열성과 균일한 열 균일성을 자랑하여 일관된 에피층 두께와 저항성을 보장합니다. 깨끗하고 매끄러운 표면을 갖춘 당사의 고순도 SiC 크리스탈 코팅은 깨끗한 웨이퍼에 대한 최적의 핸들링을 제공합니다.
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