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ICP 에칭 공정용 SiC 플레이트

ICP 에칭 공정용 SiC 플레이트

Semicorex의 ICP 에칭 프로세스용 SiC 플레이트는 박막 증착 및 웨이퍼 핸들링에서 고온 및 가혹한 화학 처리 요구 사항을 위한 완벽한 솔루션입니다. 당사 제품은 우수한 내열성과 균일한 열 균일성을 자랑하여 일관된 에피층 두께와 저항성을 보장합니다. 깨끗하고 매끄러운 표면을 갖춘 당사의 고순도 SiC 크리스탈 코팅은 깨끗한 웨이퍼에 대한 최적의 핸들링을 제공합니다.

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PSS 에칭 애플리케이션을 위한 실리콘 에칭 플레이트

PSS 에칭 애플리케이션을 위한 실리콘 에칭 플레이트

PSS 에칭 응용 분야를 위한 Semicorex의 실리콘 에칭 플레이트는 에피택셜 성장 및 웨이퍼 처리 공정을 위해 특별히 설계된 고품질 초순수 흑연 캐리어입니다. 당사의 캐리어는 혹독한 환경, 고온, 가혹한 화학적 세척을 견딜 수 있습니다. PSS 식각용 실리콘 식각판은 우수한 열분포 특성과 높은 열전도도를 가지며, 비용 효율적입니다. 당사의 제품은 많은 유럽 및 미국 시장에서 널리 사용되고 있으며, 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 기대하고 있습니다.

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에피택셜 반응기 챔버용 SiC 코팅 서셉터 배럴

에피택셜 반응기 챔버용 SiC 코팅 서셉터 배럴

Semicorex의 에피택셜 반응기 챔버용 SiC 코팅 서셉터 배럴은 우수한 열 분포 및 열 전도성 특성을 특징으로 하는 반도체 제조 공정을 위한 매우 안정적인 솔루션입니다. 또한 부식, 산화 및 고온에 대한 저항력이 매우 높습니다.

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고급스럽고 내구성이 뛰어난 plasma-etching을(를) 구매하시겠습니까? Semicorex는 확실히 좋은 선택입니다. 우리는 중국에서 가장 경쟁력 있는 plasma-etching 제조업체 및 공급업체 중 하나로 알려져 있습니다. 대량 포장도 해 드립니다. 해당 지역의 실제 요구 사항을 충족하기 위해 일부 맞춤형 서비스가 필요할 수 있습니다. 웹 페이지의 연락처 정보를 통해 메시지를 남길 수 있습니다. 우리는 상담 및 협상을 위해 공장을 방문하는 신규 및 기존 고객을 진심으로 환영합니다.
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