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에피택셜 반응기 챔버용 SiC 코팅 서셉터 배럴

에피택셜 반응기 챔버용 SiC 코팅 서셉터 배럴

Semicorex의 에피택셜 반응기 챔버용 SiC 코팅 서셉터 배럴은 뛰어난 열 분포 및 열 전도성 특성을 갖춘 반도체 제조 공정을 위한 매우 안정적인 솔루션입니다. 또한 부식, 산화 및 고온에 대한 저항력이 매우 높습니다.

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제품 설명

Semicorex의 에피택셜 반응기 챔버용 SiC 코팅 서셉터 배럴은 최고 수준의 정밀도와 내구성에 따라 제조된 프리미엄 품질의 제품입니다. 우수한 열 전도성과 내식성을 제공하며 반도체 제조의 대부분의 에피택셜 반응기에 매우 적합합니다.
에피택시얼 반응기 챔버용 SiC 코팅 서셉터 배럴은 최고의 층류 가스 흐름 패턴을 달성하도록 설계되어 열 프로파일의 균일성을 보장합니다. 이는 오염이나 불순물 확산을 방지하여 웨이퍼 칩의 고품질 에피택시 성장을 보장합니다.
에피택셜 반응기 챔버용 SiC 코팅 서셉터 배럴에 대해 자세히 알아보려면 지금 당사에 문의하세요.


에피택셜 반응기 챔버용 SiC 코팅 서셉터 배럴의 매개변수

CVD-SIC 코팅 주요 사양

SiC-CVD 속성

결정 구조

FCC β상

밀도

g/cm ³

3.21

경도

비커스 경도

2500

입자 크기

μm

2~10

화학적 순도

%

99.99995

열용량

Jkg-1 K-1

640

승화 온도

2700

굽힘 강도

MPa(RT 4점)

415

영률

Gpa (4pt 굴곡, 1300℃)

430

열팽창(C.T.E)

10-6K-1

4.5

열 전도성

(W/mK)

300


에피택셜 반응기 챔버용 SiC 코팅 서셉터 배럴의 특징

- 흑연 기판과 탄화 규소 층은 모두 밀도가 좋으며 고온 및 부식성 작업 환경에서 우수한 보호 역할을 할 수 있습니다.

- 단결정 성장에 사용되는 탄화 규소 코팅 서셉터는 표면 평탄도가 매우 높습니다.

- 흑연 기판과 탄화 규소 층 사이의 열팽창 계수 차이를 줄이고 결합 강도를 효과적으로 향상시켜 균열 및 박리를 방지합니다.

- 흑연 기판과 탄화 규소 층 모두 높은 열 전도성과 우수한 열 분포 특성을 가지고 있습니다.

- 높은 융점, 고온 내 산화성, 내식성.




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