SiC 코팅 흑연 MOCVD 서셉터

SiC 코팅 흑연 MOCVD 서셉터유기금속화학기상증착(MOCVD) 장비에 사용되는 필수 부품으로 웨이퍼 기판을 고정하고 가열하는 역할을 담당한다. 뛰어난 열 관리, 내화학성 및 치수 안정성을 갖춘 SiC 코팅 흑연 MOCVD 서셉터는 고품질 웨이퍼 기판 에피택시를 위한 최적의 옵션으로 간주됩니다.

웨이퍼 제조에서는MOCVD기술은 웨이퍼 기판 표면에 에피택셜 층을 구축하는 데 사용되며, 첨단 반도체 장치 제조를 준비합니다. 에피택셜 층의 성장은 여러 요인의 영향을 받기 때문에 웨이퍼 기판을 MOCVD 장비에 직접 배치하여 증착할 수는 없습니다. SiC 코팅 흑연 MOCVD 서셉터는 웨이퍼 기판을 고정하고 가열하여 에피택셜 층 성장을 위한 안정적인 열 조건을 만드는 데 필요합니다. 따라서 SiC 코팅 흑연 MOCVD 서셉터의 성능은 박막 재료의 균일성과 순도를 직접적으로 결정하며, 이는 결국 고급 반도체 장치의 제조에 영향을 미칩니다.

세미코렉스는고순도 흑연SiC 코팅 흑연 MOCVD 서셉터의 매트릭스 재료로 흑연 매트릭스를 균일하게 코팅합니다.탄화규소CVD 기술을 통한 코팅. 기존 기술에 비해 CVD 기술은 탄화 규소 코팅과 흑연 매트릭스 사이의 결합 강도를 크게 향상시켜 더 강한 접착력으로 더 조밀한 코팅을 구현합니다. 까다로운 고온 부식성 환경에서도 탄화규소 코팅은 구조적 무결성과 화학적 안정성을 장기간 유지하여 부식성 가스와 흑연 매트릭스 사이의 직접적인 접촉을 효과적으로 방지합니다. 이는 흑연 매트릭스의 부식을 효과적으로 방지하고 흑연 입자가 웨이퍼 기판과 에피택셜 층을 분리하고 오염시키는 것을 방지하여 반도체 장치 제조의 청결성과 수율을 보장합니다.

Semicorex의 SiC 코팅 흑연 MOCVD 서셉터의 장점

1. 우수한 내식성

2. 높은 열전도율

3. 우수한 열 안정성

4. 낮은 열팽창계수

5. 탁월한 열충격 저항

6. 높은 표면 평활도

7. 지속적인 서비스 수명