SiC 코팅 흑연 웨이퍼 서셉터

Semicorex SiC 코팅 흑연웨이퍼 서셉터웨이퍼를 지지하고 가열하기 위해 회전식 MOCVD 시스템에서 널리 사용되는 디스크 모양의 구성 요소입니다. 이는 반응 챔버에서 균일한 가스 분포와 일관된 열 분포를 촉진하여 고품질 및 고효율 에피택셜 성장을 위한 최적의 공정 환경을 제공할 수 있습니다. Semicorex SiC 코팅 흑연 웨이퍼 서셉터는 사파이어 기판의 GaN 에피택시와 같이 탁월한 박막 균일성을 요구하는 응용 분야에 적합합니다.

Semicorex SiC 코팅 흑연 웨이퍼 서셉터의 특성

Semicorex SiC 코팅 흑연 웨이퍼 서셉터는 고순도 흑연을 기본 재료로 사용하고 화학 기상 증착을 통해 베이스에 균일하고 조밀한 탄화규소 코팅을 증착합니다. 우수한 원자재와 첨단 생산 기술을 활용하는 Semicorex SiC 코팅 흑연 웨이퍼 서셉터는 다음과 같은 뛰어난 특성을 보유합니다.

1. 뛰어난 열 안정성

MOCVD 장비는 일반적으로 1000℃ 이상의 온도에서 작동하므로 내부 부품의 고온 성능에 대한 엄격한 요구 사항이 적용됩니다. Semicorex SiC 코팅 흑연 웨이퍼 서셉터는 이러한 가혹한 작업 조건에 잘 부합하고 장기간 고온 서비스 중에도 안정적으로 작동할 수 있습니다. 코팅 랙킹이나 분리가 없는 Semicorex SiC 코팅 흑연 웨이퍼 서셉터는 흑연 베이스에서 가스 및 불순물 방출 위험을 크게 제거할 수 있습니다.

2. 강한 내식성

Semicorex SiC 코팅 흑연 웨이퍼 서셉터는 복잡한 고온 및 강한 부식 조건에서 우수한 내산화성과 내식성을 제공합니다. 그들의CVD SiC 코팅NH3 및 H2와 같은 공정 가스에 의해 베이스가 침식되는 것을 크게 방지하고 탄소 오염 방출을 최소화하여 에피택셜 필름의 순도를 향상시킬 수 있습니다.

3.우수한 열전도율

Semicorex SiC 코팅 흑연 웨이퍼 서셉터는 흑연 베이스와 CVD SiC 코팅이 우수한 열 전도성을 갖기 때문에 에피택셜 성장 공정 중에 안정적인 열 관리 기능을 자랑합니다. 이는 박막 증착 공정 중에 기판 웨이퍼 전체에 균일한 열 분포를 보장하여 고품질 에피택셜 레이어를 생성할 수 있습니다.