수직형 석영 웨이퍼 보트

반도체 제조 공정에서 반응 챔버의 반도체 부품은 엄격한 고청정도 표준을 충족해야 합니다. 그렇지 않으면 마이크로 또는 나노 규모의 불순물이나 오염 물질이라도 반도체 장치의 성능과 수율에 돌이킬 수 없는 손상을 일으킬 수 있습니다.

석영 웨이퍼 보트일반적으로 확산로, 산화로, 어닐링로 등 고온 반응실에는 수직으로 설치되어 웨이퍼와 직접 접촉해야 합니다. Semicorex의 수직형 석영 웨이퍼 보트는 이러한 고청정도 요구 사항을 충족하기 위해 고순도 석영 소재로 제조됩니다. 이러한 현명한 재료 선택은 제조 공정 중 웨이퍼 보트에서 방출된 반응물로 인한 웨이퍼 오염을 효과적으로 방지합니다.

반도체 제조에서 웨이퍼 보트는 가열-냉각을 반복해야 할 뿐만 아니라 장기간에 걸쳐 공정 가스의 부식을 견뎌야 합니다. 세미코렉스의 수직형 석영웨이퍼보트는 고유의 열 안정성으로 인해 일정한 열 순환이라는 까다로운 작동 조건에서 탁월한 치수 안정성을 나타냅니다. 이러한 우수한 열적 특성은 수직형 석영 웨이퍼 보트의 정밀 저하 또는 구조적 변형으로 인한 웨이퍼 변형 및 손상을 크게 방지합니다. 게다가 화학적 불활성이 높기 때문에 수직형 석영 웨이퍼 보트는 산소, 수증기, 염화수소 및 암모니아와 같은 부식성 가스와의 반응에 저항할 수 있습니다. 이 특성은 화학적 부식이 수직 석영 웨이퍼 보트의 구조적 무결성을 손상시킬 가능성을 크게 줄입니다.

위에서 언급한 성능 이점 외에도 Semicorex의 수직 석영 웨이퍼 보트는 치수 정확도 및 구조 설계에서도 탁월한 경쟁력을 보여줍니다. 각 부품은 정밀 가공 기술로 제작됩니다. 이러한 정확한 치수 제어는 정확한 웨이퍼 위치 지정을 보장하고 로딩, 처리 및 언로딩 중 변위 또는 충돌로 인한 긁힘 및 균열을 최소화합니다.