알루미늄 질화물 히터

Semicorex 알루미늄 질화물 히터는 높은 열전도율, 전기 절연 및 탁월한 내구성을 요구하는 응용 분야를 위해 설계된 최첨단 세라믹 가열 요소입니다. 알루미늄 질화물 세라믹에서 설계된이 히터는 빠르고 균일 한 가열을 제공하여 반도체 처리, 의료 진단 및 고급 분석 기기와 같은 고정밀 환경에 이상적입니다.

알루미늄 질화물 히터는 반도체 박막 증착 장비의 주요 성분입니다. 그것들은 프로세스 챔버에 직접적으로 적용되고 웨이퍼와 직접 접촉합니다. 그들은 웨이퍼를 운반 할뿐만 아니라 웨이퍼가 

안정적이고 균일 한 공정 온도. 이 기능은 웨이퍼 표면의 고정밀 반응과 균일 한 박막의 생성에 필수적입니다.

일반적으로, 알루미늄 질화물 히터는 웨이퍼 하중 표면을 갖는 세라믹 기판과 뒷면에지지하는 원통형 지지체를 포함한다. 가열을위한 저항 가열 회로 외에도, RF 전극 및 정전기 척 전극 및 기타 도체가 세라믹 기판의 내부 또는 표면에 제공된다.

박막 증착 장비는 일반적으로 다음을 기반으로 세라믹 재료를 사용합니다.질화 알루미늄 (ALN)고온 환경이 포함되기 때문입니다. 반도체 제조에서 알루미늄 히터가 선호되는 이유는 주로 고유 한 물리적 및 화학적 특성 때문입니다. 알루미늄 질화물은 열전도율이 높을뿐만 아니라 단기간에 빠른 가열 및 냉각을 달성 할 수있을뿐만 아니라 전기 절연 및 기계적 강도가 우수하여 히터의 안정성과 신뢰성을 보장합니다. 또한, 질화증 알루미늄의 열 팽창 계수는 실리콘의 열 팽창 계수와 유사하므로, 웨이퍼에 대한 열 응력의 영향을 줄이고 공정 수율을 향상시키는 데 도움이됩니다.

일반적으로 말하면,세라믹 히터주로 박막 증착 장비에 사용됩니다. 고온 공정을 포함하기 때문에 사용 된 세라믹 재료는 주로 질화 알루미늄입니다. 정전기 척은 주로 에칭 장비에 사용되며, 사용 된 세라믹 재료는 주로 산화 알루미늄입니다. 반도체 기술이 개발되면 세라믹 히터와 정전기 척 사이에 겹치는 것이 있습니다. 예를 들어, 박막 증착 장비에 사용되는 세라믹 히터에는 고온 가열 및 정전기 흡착의 이중 기능이있는 정전기 척이 장착되어 있습니다. 에칭 장비에 사용되는 정전기 척은 또한 고온 공정을 포함하기 시작하며 세라믹 재료는 산화 알루미늄에서 알루미늄으로 변경되어야합니다.