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중국 배럴 서셉터 제조업체, 공급업체, 공장

Barrel 서셉터는 LPE, MOCVD와 같은 다양한 반도체 제조 공정에서 사용되는 중요한 부품입니다. 세미코렉스는 그라파이트 위에 고순도 탄화규소를 화학기상증착(CVD) 공정으로 얇게 도포함으로써 열적 안정성, 내약품성, 내마모성이 뛰어난 소재 반도체급으로 제작되어 온도 프로세스.

â 고순도 SiC 코팅 흑연

우수한 내열성 및 내화학성

â 높은 열 균일성

우수한 내마모성





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배럴 반응기에서 실리콘 에피택셜 증착

배럴 반응기에서 실리콘 에피택셜 증착

반도체 제조 응용 분야에 사용할 고성능 흑연 서셉터가 필요한 경우 Barrel Reactor의 Semicorex Silicon Epitaxial Deposition이 이상적인 선택입니다. 고순도 SiC 코팅과 뛰어난 열전도율은 탁월한 보호 및 열 분산 특성을 제공하여 가장 까다로운 환경에서도 안정적이고 일관된 성능을 제공합니다.

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LPE 에피택시용 유도 가열 배럴 Epi 시스템

LPE 에피택시용 유도 가열 배럴 Epi 시스템

뛰어난 열전도율과 열 분포 특성을 가진 흑연 서셉터가 필요한 경우 LPE 에피택시용 Semicorex 유도 가열 배럴 Epi 시스템만 찾으십시오. 고순도 SiC 코팅은 고온 및 부식성 환경에서 탁월한 보호 기능을 제공하므로 반도체 제조 응용 분야에 사용하기에 이상적인 선택입니다.

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반도체 에피택셜 반응기용 배럴 구조

반도체 에피택셜 반응기용 배럴 구조

탁월한 열 전도성 및 열 분포 특성을 갖춘 Semiconductor Epitaxial Reactor용 Semicorex Barrel Structure는 LPE 공정 및 기타 반도체 제조 응용 분야에서 사용하기에 완벽한 선택입니다. 고순도 SiC 코팅은 고온 및 부식성 환경에서 탁월한 보호 기능을 제공합니다.

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SiC 코팅 흑연 배럴 서셉터

SiC 코팅 흑연 배럴 서셉터

반도체 제조 응용 분야에서 사용할 고성능 흑연 서셉터를 찾고 있다면 Semicorex SiC 코팅 흑연 배럴 서셉터가 이상적인 선택입니다. 뛰어난 열전도율 및 열 분포 특성으로 인해 고온 및 부식성 환경에서 안정적이고 일관된 성능을 위한 선택입니다.

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SiC 코팅된 LPE 결정 성장 서셉터

SiC 코팅된 LPE 결정 성장 서셉터

높은 융점, 내산화성 및 내식성을 갖춘 Semicorex SiC 코팅 LPE 결정 성장 서셉터는 단결정 성장 응용 분야에 사용하기에 이상적인 선택입니다. 실리콘 카바이드 코팅은 우수한 평탄도 및 열 분포 특성을 제공하여 고온 환경에 이상적인 선택입니다.

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액상 에피택시용 배럴 서셉터

액상 에피택시용 배럴 서셉터

가장 까다로운 고온 및 부식성 환경에서도 안정적이고 일관되게 수행할 수 있는 흑연 서셉터가 필요한 경우 액상 에피택시용 Semicorex Barrel Susceptor가 완벽한 선택입니다. 실리콘 카바이드 코팅은 뛰어난 열 전도성과 열 분포를 제공하여 반도체 제조 응용 분야에서 뛰어난 성능을 보장합니다.

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Semicorex는 수년 동안 배럴 서셉터을(를) 생산해 왔으며 중국의 전문 배럴 서셉터 제조업체 및 공급업체 중 하나입니다. 대량 포장을 제공하는 당사의 고급 내구성 제품을 구매하면 대량의 빠른 배송을 보장합니다. 수년에 걸쳐 우리는 고객에게 맞춤형 서비스를 제공했습니다. 고객은 우리 제품과 우수한 서비스에 만족합니다. 우리는 진심으로 귀하의 신뢰할 수 있는 장기 비즈니스 파트너가 되기를 기대합니다! 우리 공장에서 제품을 구입하는 것을 환영합니다.
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