중국 배럴 수신기 제조업체, 공급업체, 공장

배럴 서셉터는 LPE, MOCVD 등 다양한 반도체 제조 공정에 사용되는 핵심 부품입니다. 세미코렉스는 CVD(Chemical Vapor Deposition) 공정을 이용해 흑연 위에 고순도 탄화규소를 얇게 도포해 내열성, 내화학성, 내마모성이 우수한 반도체급 소재로 만들어지며, 고순도 산업에 적합합니다. 온도 과정.

● 고순도 SiC 코팅 흑연

● 우수한 내열성, 내화학성

● 높은 열 균일성

● 우수한 내마모성

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배럴 반응기의 실리콘 에피택셜 증착

반도체 제조 응용 분야에 사용하기 위해 고성능 흑연 서셉터가 필요한 경우 배럴 반응기의 Semicorex Silicon Epitaxis Deposition이 이상적인 선택입니다. 고순도 SiC 코팅과 탁월한 열 전도성은 탁월한 보호 및 열 분산 특성을 제공하므로 가장 까다로운 환경에서도 안정적이고 일관된 성능을 발휘할 수 있는 선택입니다.

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유도 가열 배럴 Epi 시스템

탁월한 열전도율과 열 분포 특성을 갖춘 흑연 서셉터가 필요한 경우 Semicorex 유도 가열 배럴 Epi 시스템을 찾아보십시오. 고순도 SiC 코팅은 고온 및 부식성 환경에서 탁월한 보호 기능을 제공하므로 반도체 제조 응용 분야에 사용하기에 이상적인 선택입니다.

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반도체 에피택셜 반응기의 배럴 구조

뛰어난 열 전도성과 열 분포 특성을 갖춘 반도체 에피택셜 반응기용 Semicorex 배럴 구조는 LPE 공정 및 기타 반도체 제조 응용 분야에 사용하기에 완벽한 선택입니다. 고순도 SiC 코팅은 고온 및 부식성 환경에서 탁월한 보호 기능을 제공합니다.

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SiC 코팅 흑연 배럴 서셉터

반도체 제조 응용 분야에 사용할 고성능 흑연 서셉터를 찾고 있다면 Semicorex SiC 코팅 흑연 배럴 서셉터가 이상적인 선택입니다. 뛰어난 열전도율과 열 분포 특성으로 인해 고온 및 부식성 환경에서 안정적이고 일관된 성능을 발휘하는 데 적합합니다.

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SiC 코팅 결정 성장 지지체

높은 융점, 내산화성 및 내식성을 갖춘 Semicorex SiC 코팅 결정 성장 서셉터는 단결정 성장 응용 분야에 사용하기에 이상적인 선택입니다. 탄화규소 코팅은 탁월한 평탄도와 열 분포 특성을 제공하므로 고온 환경에 이상적인 선택입니다.

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액상 에피택시용 배럴 서셉터

가장 까다로운 고온 및 부식성 환경에서도 안정적이고 일관되게 작동할 수 있는 흑연 서셉터가 필요한 경우 액상 에피택시용 Semicorex 배럴 서셉터가 완벽한 선택입니다. 탄화규소 코팅은 우수한 열 전도성과 열 분포를 제공하여 반도체 제조 응용 분야에서 탁월한 성능을 보장합니다.

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Semicorex는 수년 동안 배럴 수신기을(를) 생산해 왔으며 중국의 전문 배럴 수신기 제조업체 및 공급업체 중 하나입니다. 대량 포장을 제공하는 당사의 고급 내구성 제품을 구매하면 대량의 빠른 배송을 보장합니다. 수년에 걸쳐 우리는 고객에게 맞춤형 서비스를 제공했습니다. 고객은 우리 제품과 우수한 서비스에 만족합니다. 우리는 진심으로 귀하의 신뢰할 수 있는 장기 비즈니스 파트너가 되기를 기대합니다! 우리 공장에서 제품을 구입하는 것을 환영합니다.