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CVD TAC 코팅 링
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CVD TAC 코팅 링

Semicorex CVD TAC 코팅 링은 정확한 가스 제어 및 열 안정성을 보장하기 위해 결정 성장 용광로에 사용되는 고성능 유량 가이드 구성 요소입니다. Semicorex는 가장 까다로운 반도체 환경에서 타의 추종을 불허하는 품질, 엔지니어링 전문 지식 및 입증 된 성능을 제공합니다.*

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제품 설명

Semicorex CVD TAC 코팅 링은 특히 방향성 응고 및 Czochralski (CZ) 당김 시스템 내에서 결정 성장 공정을 위해 특별히 설계된 정밀 엔지니어링 구성 요소입니다. 이 CVD TAC 코팅 링은 유량 가이드 구성 요소 (공동체로“흐름 가이드 링”또는“가스 편향 링”이라고 불리는 흐름 가이드 구성 요소로서 기능하며 결정 성장 단계에서 안정적인 가스 흐름 패턴 및 열 환경을 유지하는 데 중요한 역할을합니다.


실리콘 카바이드 웨이퍼 성장을 예로 들어, 열전대 재료의 흑연 재료 및 탄소-탄소 복합 재료는 2300 ℃에서 복잡한 대기 (SI, SIC₂, SI₂C) 공정을 충족시키기가 어렵다. 서비스 수명이 짧을뿐만 아니라 다른 부품이 1 ~ 10 용광로를 대체 할뿐만 아니라 고온에서 흑연의 투석 및 휘발은 탄소 포함과 같은 결정 결함으로 이어질 수 있습니다. 반도체 결정의 고품질 및 안정적인 성장을 보장하고 산업 생산 비용을 고려하기 위해, 초고 온도 부식성 세라믹 코팅은 흑연 부품의 표면에 준비되어 흑연 구성 요소의 수명을 연장하고 불순종 이동을 억제하며 결정 순도를 향상시킬 것입니다. 실리콘 카바이드의 에피 탁상 성장에서, 실리콘 카바이드 코팅 흑연 감수체는 일반적으로 단결정 기판을 운반하고 가열하는데 사용된다. 그들의 서비스 수명은 여전히 개선되어야하며 인터페이스의 실리콘 카바이드 퇴적물을 정기적으로 청소해야합니다. 대조적으로,탄탈 룸 카바이드 (TAC) 코팅부식성 대기와 고온에 더 저항력이 있으며, 그러한 SIC 결정이 "성장하고, 두껍고, 잘 자라는"핵심 기술입니다.


TAC는 최대 3880 ℃의 용융점을 가지며 높은 기계적 강도, 경도 및 열 충격 저항을 갖는다. 고온에서 암모니아, 수소 및 실리콘 함유 증기에 대한 화학적 불활성 및 열 안정성이 우수합니다. TAC 코팅으로 코팅 된 흑연 (탄소-탄소 복합체) 재료는 기존의 고급 흑연, PBN 코팅, SIC 코팅 부품 등을 대체 할 가능성이 매우 높습니다. 또한 항공 우주 분야에서 TAC는 고온 산화 및 항 알축 코팅으로 사용될 수있는 큰 잠재력을 가지고 있으며 광범위한 응용 전망을 갖습니다. 그러나, 흑연 표면에서 밀도가 높고, 균일하며, 비열한 TAC 코팅의 준비를 달성하고 산업 대량 생산을 촉진하는 데 여전히 많은 도전이있다. 이 과정에서 코팅의 보호 메커니즘을 탐색하고 생산 공정을 혁신하며 최고 외국 수준과 경쟁하는 것이 3 세대 반도체 결정 성장 및 에피 택시에 중요합니다.


기존 흑연 세트를 사용하여 SIC PVT 프로세스CVD TAC 코팅고리는 온도 분포에 대한 방사율의 영향을 이해하도록 모델링되었으며, 이는 성장 속도와 잉곳 모양의 변화를 초래할 수 있습니다. CVD TAC 코팅 링은 기존 흑연에 비해 더 많은 균일 한 온도를 달성하는 것으로 나타났습니다. 또한, TAC 코팅의 우수한 열 및 화학적 안정성은 탄소와 Si 증기의 반응을 방지한다. 결과적으로, TAC 코팅은 방사형 방향으로의 C/Si의 분포를 더 균일하게 만듭니다.


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