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MOCVD용 SiC 흑연 RTP 캐리어 플레이트

MOCVD용 SiC 흑연 RTP 캐리어 플레이트

MOCVD용 Semicorex SiC 흑연 RTP 캐리어 플레이트는 우수한 내열성과 열 균일성을 제공하여 반도체 웨이퍼 처리 애플리케이션을 위한 완벽한 솔루션입니다. 고품질 SiC 코팅 흑연을 사용하는 이 제품은 에피택셜 성장을 위한 가장 가혹한 증착 환경을 견디도록 설계되었습니다. 높은 열전도율과 우수한 열 분포 특성은 RTA, RTP 또는 가혹한 화학 세척에 대해 안정적인 성능을 보장합니다.

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에피택셜 성장용 SiC 코팅 RTP 캐리어 플레이트

에피택셜 성장용 SiC 코팅 RTP 캐리어 플레이트

에피택셜 성장용 Semicorex SiC 코팅 RTP 캐리어 플레이트는 반도체 웨이퍼 처리 애플리케이션을 위한 완벽한 솔루션입니다. 흑연, 세라믹 등의 표면에 MOCVD로 처리된 고품질 탄소 흑연 서셉터와 석영 도가니가 있는 이 제품은 웨이퍼 핸들링 및 에피택셜 성장 처리에 이상적입니다. SiC 코팅 캐리어는 높은 열전도율과 우수한 열 분산 특성을 보장하므로 RTA, RTP 또는 가혹한 화학 세정을 위한 신뢰할 수 있는 선택입니다.

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MOCVD 에피택셜 성장용 RTP 캐리어

MOCVD 에피택셜 성장용 RTP 캐리어

MOCVD 에피택셜 성장용 Semicorex RTP 캐리어는 에피택셜 성장 및 웨이퍼 핸들링 처리를 포함한 반도체 웨이퍼 처리 응용 분야에 이상적입니다. 탄소 흑연 서셉터 및 석영 도가니는 흑연, 세라믹 등의 표면에서 MOCVD로 처리됩니다. 당사 제품은 가격 이점이 뛰어나고 많은 유럽 및 미국 시장을 커버합니다. 우리는 중국에서 당신의 장기적인 파트너가 되기를 기대합니다.

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ICP 에칭 공정용 SiC 플레이트

ICP 에칭 공정용 SiC 플레이트

Semicorex의 ICP 에칭 공정용 SiC 플레이트는 박막 증착 및 웨이퍼 처리에서 고온 및 가혹한 화학 처리 요구 사항을 위한 완벽한 솔루션입니다. 당사 제품은 우수한 내열성과 균일한 열 균일성을 자랑하여 일정한 에피층 두께와 저항성을 보장합니다. 표면이 깨끗하고 매끄러운 당사의 고순도 SiC 크리스탈 코팅은 깨끗한 웨이퍼를 최적으로 처리합니다.

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고급스럽고 내구성이 뛰어난 SiC-Coated-Graphite-Susceptors을(를) 구매하시겠습니까? Semicorex는 확실히 좋은 선택입니다. 우리는 중국에서 가장 경쟁력 있는 SiC-Coated-Graphite-Susceptors 제조업체 및 공급업체 중 하나로 알려져 있습니다. 대량 포장도 해 드립니다. 해당 지역의 실제 요구 사항을 충족하기 위해 일부 맞춤형 서비스가 필요할 수 있습니다. 웹 페이지의 연락처 정보를 통해 메시지를 남길 수 있습니다. 우리는 상담 및 협상을 위해 공장을 방문하는 신규 및 기존 고객을 진심으로 환영합니다.
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