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MOCVD 에피택셜 성장을 위한 RTP 캐리어

MOCVD 에피택셜 성장을 위한 Semicorex RTP 캐리어는 에피택셜 성장 및 웨이퍼 핸들링 처리를 포함한 반도체 웨이퍼 처리 응용 분야에 이상적입니다. 탄소 흑연 서셉터 및 석영 도가니는 흑연, 세라믹 등의 표면에서 MOCVD로 가공됩니다. 당사의 제품은 가격 우위가 뛰어나며 많은 유럽 및 미국 시장을 포괄합니다. 우리는 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 기대하고 있습니다.

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SiC 코팅 ICP 구성 요소

Semicorex의 SiC 코팅 ICP 부품은 에피택시 및 MOCVD와 같은 고온 웨이퍼 처리 공정을 위해 특별히 설계되었습니다. 미세한 SiC 크리스탈 코팅을 갖춘 당사의 캐리어는 뛰어난 내열성, 균일한 열 균일성 및 내구성 있는 내화학성을 제공합니다.

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플라즈마 에칭 챔버용 고온 SiC 코팅

에피택시 및 MOCVD와 같은 웨이퍼 핸들링 공정에서는 Semicorex의 플라즈마 식각 챔버용 고온 SiC 코팅이 최고의 선택입니다. 당사의 캐리어는 미세한 SiC 크리스탈 코팅 덕분에 뛰어난 내열성, 균일한 열 균일성, 내구성 있는 내화학성을 제공합니다.

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ICP 플라즈마 에칭 트레이

Semicorex의 ICP 플라즈마 에칭 트레이는 에피택시 및 MOCVD와 같은 고온 웨이퍼 처리 공정을 위해 특별히 설계되었습니다. 최대 1600°C의 안정적인 고온 내산화성을 갖춘 당사의 캐리어는 균일한 열 프로필, 층류 가스 흐름 패턴을 제공하고 오염 또는 불순물 확산을 방지합니다.

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ICP 플라즈마 에칭 시스템

ICP 플라즈마 에칭 시스템을 위한 Semicorex의 SiC 코팅 캐리어는 에피택시 및 MOCVD와 같은 고온 웨이퍼 처리 공정을 위한 안정적이고 비용 효율적인 솔루션입니다. 당사의 캐리어는 우수한 내열성, 균일한 열 균일성 및 내구성 있는 내화학성을 제공하는 미세한 SiC 크리스탈 코팅을 특징으로 합니다.

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유도 결합 플라즈마(ICP)

Semicorex의 ICP(유도 결합 플라즈마)용 탄화규소 코팅 서셉터는 에피택시 및 MOCVD와 같은 고온 웨이퍼 처리 공정을 위해 특별히 설계되었습니다. 최대 1600°C의 안정적인 고온 내산화성을 갖춘 당사의 캐리어는 균일한 열 프로파일, 층류 가스 흐름 패턴을 보장하고 오염 또는 불순물 확산을 방지합니다.

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Semicorex는 수년 동안 실리콘 카바이드 코팅을(를) 생산해 왔으며 중국의 전문 실리콘 카바이드 코팅 제조업체 및 공급업체 중 하나입니다. 대량 포장을 제공하는 당사의 고급 내구성 제품을 구매하면 대량의 빠른 배송을 보장합니다. 수년에 걸쳐 우리는 고객에게 맞춤형 서비스를 제공했습니다. 고객은 우리 제품과 우수한 서비스에 만족합니다. 우리는 진심으로 귀하의 신뢰할 수 있는 장기 비즈니스 파트너가 되기를 기대합니다! 우리 공장에서 제품을 구입하는 것을 환영합니다.