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에피택셜 성장의 TaC 코팅 부품
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에피택셜 성장의 TaC 코팅 부품

에피택셜 성장의 Semicorex TaC 코팅 부품은 반도체 에피택셜 공정의 공기 흡입구에 위치한 귀중한 가공 부품입니다. 세미코렉스는 중국 내 CVD TaC 코팅 기술 전문기업으로 전 세계로 제품을 수출하고 있는 일류 기업입니다.*

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제품 설명

에피택셜 성장에서 Semicorex TaC 코팅 부품은 직사각형 튜브 모양의 부품으로, 이 부품은 주로 CVD 로의 공기 흡입 진행을 담당합니다. 그래서 꼭 필요한 부품이며, 엄격한 환경에 직면하고 온도도 높으며 부식성 가스도 존재합니다. 이것이 우리가 TaC 코팅 흑연을 선택한 이유를 드러냅니다.


장점탄탈륨 카바이드(TaC) 코팅

탄탈륨 카바이드(TaC) 코팅은 화학 기상 증착(CVD) 용광로 내부와 같은 열악한 조건에서 사용하도록 설계된 공기 흡입 시스템의 가장 중요한 일부 부품에 필요합니다. CVD 용광로에서 발견되는 높은 온도와 부식성 가스에 대한 노출은 매우 까다로운 작업 환경을 만듭니다. 우수한 화학적 불활성을 제공하고 부식 및 분해에 저항할 수 있는 잠재력을 갖춘 에피택셜 성장에서 공기 흡입구 TaC 코팅 구성 요소에 TaC 코팅을 사용하면 결함 있는 입자 생성 가능성이 크게 줄어들어 구성 요소의 수명이 연장되고 수집된 상피 필름의 최고 수율과 품질을 제공할 수 있습니다.



코팅기술의 우수성

Semicorex는 첨단 CVD 기술을 사용하여 제조합니다.입증된 신뢰성과 파트너십성능과 품질 모두에서 오늘날 가장 까다로운 업계 표준을 충족합니다. Semicorex가 TaC 코팅을 제조하는 정밀도는 제조된 코팅의 높은 품질을 통해 분명합니다.


특징
세미코렉스의 장점
고객에게 미치는 영향
우수한 접착력
최적화된 증착 공정은 TaC 층과 흑연 기판 사이에 강력하고 균일한 화학적 결합을 생성합니다.
열 순환 시 박리나 벗겨짐이 없어 장기적인 신뢰성을 보장합니다.
표면 균일성
직사각형 튜브의 모든 내부 및 외부 표면에 걸쳐 코팅 두께와 균질성을 정밀하게 제어합니다.
일관된 흐름 역학 및 열 성능은 반복 가능한 공기 흡입에 필수적입니다.
높은 코팅 순도
우리는 매우 깨끗한 TaC 층을 달성하기 위해 고순도 전구체와 세심한 공정을 사용합니다.
성장된 에피택셜 필름의 품질에 영향을 미칠 수 있는 미량 금속 및 불순물 오염을 최소화합니다.

최적화된 기판 선택

코팅된 부품의 성능은 기본적으로 기판의 품질과 연관되어 있습니다. Semicorex의 TaC 코팅 직사각형 튜브에 가장 적합한 흑연 기본 재료의 선택은 다음과 같은 여러 가지 중요한 기준에 따라 당사 엔지니어링 팀에서 신중하게 이루어집니다.


우리는 TaC 코팅과 흑연 기판 사이의 가장 강력한 결합을 달성하기 위해 물리적 특성을 기준으로 흑연 등급을 선택합니다. 이는 흑연 기판에 대한 TaC 코팅의 최대 접착력을 보장합니다.


TaC 코팅 직사각형 튜브를 만드는 데 사용되는 흑연은 고온 CVD 공정 중 가스 방출 및 오염 가능성을 최소화하기 위해 순도가 매우 높아야 합니다.


우리의 엄격한 소싱 및 품질 관리 프로세스는 우리가 사용하는 모든 흑연 기판 배치가 동일한 재료 특성을 갖도록 보장합니다. 이를 통해 우리는 매번 동일한 성능 특성을 지닌 TaC 코팅 직사각형 튜브를 생산할 수 있습니다.


입증된 신뢰성과 파트너십

에피택셜 성장의 TaC 코팅 부품은 반도체 업계에서 가장 크고 존경받는 여러 제조업체에 의해 광범위한 테스트와 승인을 받았습니다. 이들 제조업체는 Semicorex 제품을 에피택셜 성장의 중요한 응용 분야에 사용하기 위한 신뢰할 수 있는 표준으로 확립했습니다.


우리는 부품 공급이 생산 공정의 중요한 구성 요소라는 것을 알고 있습니다. 그렇기 때문에 Semicorex는 고품질의 신뢰할 수 있는 제품 공급을 제공하고 물류 및 애프터 서비스 지원을 통해 귀하의 비즈니스가 원활하고 중단 없이 진행되도록 함으로써 장기적인 파트너가 되겠다고 약속했습니다.



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