TaC 코팅 가이드 링

기능TaC 코팅 가이드 링:

정밀한 가스 흐름 제어:TaC 코팅 가이드 링은 MOCVD 반응기의 가스 주입 시스템 내에 전략적으로 배치됩니다. 주요 기능은 전구체 가스의 흐름을 유도하고 기판 웨이퍼 표면 전체에 균일한 분포를 보장하는 것입니다. 가스 흐름 역학에 대한 정밀한 제어는 균일한 에피택셜 층 성장과 원하는 재료 특성을 달성하는 데 필수적입니다.

열 관리:TaC 코팅 가이드 링은 가열된 서셉터 및 기판에 근접해 있기 때문에 종종 높은 온도에서 작동합니다. TaC의 우수한 열전도율은 열을 효과적으로 분산시켜 국부적인 과열을 방지하고 반응 구역 내에서 안정적인 온도 프로파일을 유지하는 데 도움이 됩니다.

MOCVD에서 TaC의 장점:

극한의 온도 저항:TaC는 3800°C를 초과하는 모든 물질 중에서 가장 높은 녹는점을 자랑합니다. 

뛰어난 화학적 불활성:TaC는 암모니아, 실란 및 다양한 금속-유기 화합물과 같이 MOCVD에 사용되는 반응성 전구체 가스의 부식 및 화학적 공격에 대한 탁월한 저항성을 나타냅니다.

TaC와 SiC의 내식성 비교

낮은 열팽창:TaC의 낮은 열팽창 계수는 MOCVD 공정 중 온도 변동으로 인한 치수 변화를 최소화합니다. 

높은 내마모성:TaC의 경도와 내구성은 MOCVD 시스템 내의 지속적인 가스 흐름과 잠재적인 미립자 물질로 인한 마모 및 파손에 대한 탁월한 저항성을 제공합니다. 

MOCVD 성능의 이점:

MOCVD 장비에 Semicorex TaC 코팅 가이드 링을 사용하면 다음 사항에 크게 기여합니다.

향상된 에피택셜 층 균일성:TaC 코팅 가이드 링에 의해 촉진된 정밀한 가스 흐름 제어는 균일한 전구체 분포를 보장하여 일관된 두께와 구성으로 매우 균일한 에피택셜 층 성장을 보장합니다.

향상된 공정 안정성:TaC의 열적 안정성과 화학적 불활성은 MOCVD 챔버 내에서 보다 안정적이고 제어된 반응 환경에 기여하여 공정 변동을 최소화하고 재현성을 향상시킵니다.

장비 가동 시간 증가:TaC 코팅 가이드 링의 내구성과 연장된 수명은 빈번한 교체 필요성을 줄여 유지 관리 중단 시간을 최소화하고 MOCVD 시스템의 작동 효율성을 극대화합니다.