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LPE 에피택시용 배럴 서셉터 에피 시스템

LPE 에피택시용 배럴 서셉터 에피 시스템

Semicorex Barrel Susceptor Epi System for LPE Epitaxy는 우수한 코팅 접착력, 고순도 및 고온 내산화성을 제공하는 고품질 제품입니다. 균일한 열 프로필, 층류 가스 흐름 패턴 및 오염 방지로 인해 웨이퍼 칩의 에피셜 레이어 성장에 이상적인 선택입니다. 비용 효율성과 사용자 정의 가능성으로 인해 시장에서 매우 경쟁력 있는 제품입니다.

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제품 설명

당사의 LPE 에피택시용 Barrel Susceptor Epi 시스템은 뛰어난 열 성능, 고른 열 프로파일 및 우수한 코팅 접착력을 제공하는 매우 혁신적인 제품입니다. 고순도, 고온 내산화성 및 내식성으로 인해 반도체 산업에서 사용하기에 매우 신뢰할 수 있는 제품입니다. 오염 및 불순물 방지와 낮은 유지 보수 요구 사항으로 인해 시장에서 매우 경쟁력 있는 제품입니다.

Semicorex는 고객에게 고품질의 비용 효율적인 제품을 제공하는 데 중점을 둡니다. 당사의 LPE Epitaxy용 Barrel Susceptor Epi System은 가격 이점이 있으며 많은 유럽 및 미국 시장에 수출되고 있습니다. 우리는 일관된 품질의 제품과 탁월한 고객 서비스를 제공하는 장기적인 파트너가 되는 것을 목표로 합니다.

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LPE Epitaxy를 위한 Barrel Susceptor Epi System의 매개변수

CVD-SIC 코팅의 주요 사양

SiC-CVD 속성

결정 구조

FCC β 단계

밀도

g/cm ³

3.21

경도

비커스 경도

2500

입자 크기

μm

2~10

화학적 순도

%

99.99995

열용량

J·kg-1·K-1

640

승화 온도

2700

쇠약한 힘

MPa(RT 4점)

415

영률

GPA (4pt 굽힘, 1300â)

430

열팽창(C.T.E)

10-6K-1

4.5

열 전도성

(W/mK)

300


LPE Epitaxy용 Barrel Susceptor Epi System의 특징

- 흑연 기판과 실리콘 카바이드 층 모두 밀도가 좋으며 고온 및 부식성 작업 환경에서 우수한 보호 역할을 할 수 있습니다.

- 단결정 성장에 사용되는 탄화 규소 코팅 서셉터는 표면 평탄도가 매우 높습니다.

- 흑연 기판과 실리콘 카바이드 층 사이의 열팽창 계수 차이를 줄이고 접착 강도를 효과적으로 향상시켜 균열 및 박리를 방지합니다.

- 흑연 기판과 실리콘 카바이드 층 모두 열전도율이 높고 열분산 특성이 우수합니다.

- 고융점, 고온 내산화성, 내식성.




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