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배럴 수신기 Epi 시스템

배럴 수신기 Epi 시스템

Semicorex Barrel Susceptor Epi System은 우수한 코팅 접착력, 고순도, 고온 산화 저항성을 제공하는 고품질 제품입니다. 균일한 열 프로필, 층류 가스 흐름 패턴 및 오염 방지 기능을 통해 웨이퍼 칩의 에픽시얼 레이어 성장에 이상적인 선택입니다. 비용 효율성과 사용자 정의 가능성으로 인해 시장에서 경쟁력이 매우 높은 제품입니다.

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제품 설명

당사의 배럴 서셉터 Epi 시스템은 뛰어난 열 성능, 균일한 열 프로파일 및 우수한 코팅 접착력을 제공하는 매우 혁신적인 제품입니다. 고순도, 고온 내산화성, 내식성으로 인해 반도체 산업에서 사용하기에 신뢰성이 높은 제품입니다. 오염과 불순물을 방지하고 유지 관리 요구 사항이 낮아 시장에서 경쟁력이 매우 높은 제품입니다.
Semicorex에서는 고객에게 고품질의 비용 효율적인 제품을 제공하는 데 중점을 두고 있습니다. 당사의 배럴 서셉터 Epi 시스템은 가격 우위를 갖고 있으며 많은 유럽 및 미국 시장으로 수출됩니다. 우리는 일관된 품질의 제품과 뛰어난 고객 서비스를 제공하는 장기적인 파트너가 되는 것을 목표로 합니다.
배럴 서셉터 Epi 시스템에 대해 자세히 알아보려면 지금 문의하세요.


배럴 서셉터 Epi 시스템의 매개변수

CVD-SIC 코팅 주요 사양

SiC-CVD 속성

결정 구조

FCC β상

밀도

g/cm ³

3.21

경도

비커스 경도

2500

입자 크기

μm

2~10

화학적 순도

%

99.99995

열용량

Jkg-1 K-1

640

승화 온도

2700

굽힘 강도

MPa(RT 4점)

415

영률

Gpa (4pt 굴곡, 1300℃)

430

열팽창(C.T.E)

10-6K-1

4.5

열전도율

(W/mK)

300


배럴 서셉터 Epi 시스템의 특징

- 흑연 기판과 탄화 규소 층은 모두 밀도가 좋으며 고온 및 부식성 작업 환경에서 우수한 보호 역할을 할 수 있습니다.

- 단결정 성장에 사용되는 실리콘 카바이드 코팅 서셉터는 표면 평탄도가 매우 높습니다.

- 흑연 기판과 실리콘 카바이드 층 사이의 열팽창 계수 차이를 줄이고 결합 강도를 효과적으로 향상시켜 균열 및 박리를 방지합니다.

- Both the graphite substrate and silicon carbide layer have a high thermal conductivity, and excellent heat distribution properties.

- 높은 융점, 고온 내 산화성, 내식성.




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