Semicorex Barrel Susceptor Epi System for LPE Epitaxy는 우수한 코팅 접착력, 고순도 및 고온 내산화성을 제공하는 고품질 제품입니다. 균일한 열 프로필, 층류 가스 흐름 패턴 및 오염 방지로 인해 웨이퍼 칩의 에피셜 레이어 성장에 이상적인 선택입니다. 비용 효율성과 사용자 정의 가능성으로 인해 시장에서 매우 경쟁력 있는 제품입니다.
당사의 LPE 에피택시용 Barrel Susceptor Epi 시스템은 뛰어난 열 성능, 고른 열 프로파일 및 우수한 코팅 접착력을 제공하는 매우 혁신적인 제품입니다. 고순도, 고온 내산화성 및 내식성으로 인해 반도체 산업에서 사용하기에 매우 신뢰할 수 있는 제품입니다. 오염 및 불순물 방지와 낮은 유지 보수 요구 사항으로 인해 시장에서 매우 경쟁력 있는 제품입니다.
Semicorex는 고객에게 고품질의 비용 효율적인 제품을 제공하는 데 중점을 둡니다. 당사의 LPE Epitaxy용 Barrel Susceptor Epi System은 가격 이점이 있으며 많은 유럽 및 미국 시장에 수출되고 있습니다. 우리는 일관된 품질의 제품과 탁월한 고객 서비스를 제공하는 장기적인 파트너가 되는 것을 목표로 합니다.
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LPE Epitaxy를 위한 Barrel Susceptor Epi System의 매개변수
CVD-SIC 코팅의 주요 사양 |
||
SiC-CVD 속성 |
||
결정 구조 |
FCC β 단계 |
|
밀도 |
g/cm ³ |
3.21 |
경도 |
비커스 경도 |
2500 |
입자 크기 |
μm |
2~10 |
화학적 순도 |
% |
99.99995 |
열용량 |
J·kg-1·K-1 |
640 |
승화 온도 |
℃ |
2700 |
쇠약한 힘 |
MPa(RT 4점) |
415 |
영률 |
GPA (4pt 굽힘, 1300â) |
430 |
열팽창(C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
열 전도성 |
(W/mK) |
300 |
LPE Epitaxy용 Barrel Susceptor Epi System의 특징
- 흑연 기판과 실리콘 카바이드 층 모두 밀도가 좋으며 고온 및 부식성 작업 환경에서 우수한 보호 역할을 할 수 있습니다.
- 단결정 성장에 사용되는 탄화 규소 코팅 서셉터는 표면 평탄도가 매우 높습니다.
- 흑연 기판과 실리콘 카바이드 층 사이의 열팽창 계수 차이를 줄이고 접착 강도를 효과적으로 향상시켜 균열 및 박리를 방지합니다.
- 흑연 기판과 실리콘 카바이드 층 모두 열전도율이 높고 열분산 특성이 우수합니다.
- 고융점, 고온 내산화성, 내식성.