ICP 플라즈마 에칭 시스템을 위한 Semicorex의 SiC 코팅 캐리어는 에피택시 및 MOCVD와 같은 고온 웨이퍼 처리 공정을 위한 안정적이고 비용 효율적인 솔루션입니다. 당사의 캐리어는 우수한 내열성, 균일한 열 균일성 및 내구성 있는 내화학성을 제공하는 미세한 SiC 크리스탈 코팅을 특징으로 합니다.
더 읽어보기문의 보내기Semicorex의 ICP 에칭 웨이퍼 홀더는 에피택시 및 MOCVD와 같은 고온 웨이퍼 처리 공정을 위한 완벽한 솔루션입니다. 최대 1600°C의 안정적인 고온 내산화성을 갖춘 당사의 캐리어는 균일한 열 프로파일, 층류 가스 흐름 패턴을 보장하고 오염 또는 불순물 확산을 방지합니다.
더 읽어보기문의 보내기탁월한 열전도율과 열 분포 특성을 갖춘 흑연 서셉터가 필요한 경우 Semicorex 유도 가열 배럴 Epi 시스템을 찾아보십시오. 고순도 SiC 코팅은 고온 및 부식성 환경에서 탁월한 보호 기능을 제공하므로 반도체 제조 응용 분야에 사용하기에 이상적인 선택입니다.
더 읽어보기문의 보내기뛰어난 열 전도성과 열 분포 특성을 갖춘 반도체 에피택셜 반응기용 Semicorex 배럴 구조는 LPE 공정 및 기타 반도체 제조 응용 분야에 사용하기에 완벽한 선택입니다. 고순도 SiC 코팅은 고온 및 부식성 환경에서 탁월한 보호 기능을 제공합니다.
더 읽어보기문의 보내기반도체 제조 응용 분야에 사용할 고성능 흑연 서셉터를 찾고 있다면 Semicorex SiC 코팅 흑연 배럴 서셉터가 이상적인 선택입니다. 뛰어난 열전도율과 열 분포 특성으로 인해 고온 및 부식성 환경에서 안정적이고 일관된 성능을 발휘하는 데 적합합니다.
더 읽어보기문의 보내기가장 까다로운 고온 및 부식성 환경에서도 안정적이고 일관되게 작동할 수 있는 흑연 서셉터가 필요한 경우 액상 에피택시용 Semicorex 배럴 서셉터가 완벽한 선택입니다. 탄화규소 코팅은 우수한 열 전도성과 열 분포를 제공하여 반도체 제조 응용 분야에서 탁월한 성능을 보장합니다.
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