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반도체용 MOCVD 플래닛 서셉터

Semicorex는 반도체 업계에서 신뢰받는 기업으로, 반도체용 고품질 MOCVD Planet Susceptor를 제공하고 있습니다. 당사의 제품은 탁월한 성능, 안정성 및 내구성을 제공할 수 있는 캐리어를 찾는 반도체 제조업체의 특정 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 당사 제품에 대한 자세한 내용과 귀하의 반도체 제조 요구 사항에 대해 당사가 어떻게 도움을 드릴 수 있는지 알아보려면 지금 당사에 문의하십시오.

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ICP 플라즈마 에칭 트레이

Semicorex의 ICP 플라즈마 에칭 트레이는 에피택시 및 MOCVD와 같은 고온 웨이퍼 처리 공정을 위해 특별히 설계되었습니다. 최대 1600°C의 안정적인 고온 내산화성을 갖춘 당사의 캐리어는 균일한 열 프로필, 층류 가스 흐름 패턴을 제공하고 오염 또는 불순물 확산을 방지합니다.

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배럴 반응기의 실리콘 에피택셜 증착

반도체 제조 응용 분야에 사용하기 위해 고성능 흑연 서셉터가 필요한 경우 배럴 반응기의 Semicorex Silicon Epitaxis Deposition이 이상적인 선택입니다. 고순도 SiC 코팅과 탁월한 열 전도성은 탁월한 보호 및 열 분산 특성을 제공하므로 가장 까다로운 환경에서도 안정적이고 일관된 성능을 발휘할 수 있는 선택입니다.

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에피택셜 성장을 위한 SiC 코팅 배럴 서셉터

우수한 밀도와 열 전도성을 갖춘 에피택셜 성장용 Semicorex SiC 코팅 배럴 서셉터는 고온 및 부식성 환경에서 사용하기에 이상적인 선택입니다. 고순도 SiC로 코팅된 이 흑연 제품은 탁월한 보호 및 열 분배 기능을 제공하여 반도체 제조 응용 분야에서 안정적이고 일관된 성능을 보장합니다.

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SiC 코팅 에피택셜 반응기 배럴

Semicorex SiC 코팅 에피택셜 리액터 배럴은 고순도 SiC로 코팅된 최고 품질의 흑연 제품입니다. 뛰어난 밀도와 열 전도성으로 인해 LPE 공정에 사용하기에 이상적인 선택이며 부식성 및 고온 환경에서 탁월한 열 분배 및 보호 기능을 제공합니다.

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에피택셜 반응기 챔버용 SiC 코팅 서셉터 배럴

Semicorex의 에피택셜 반응기 챔버용 SiC 코팅 서셉터 배럴은 우수한 열 분포 및 열 전도성 특성을 특징으로 하는 반도체 제조 공정을 위한 매우 안정적인 솔루션입니다. 또한 부식, 산화 및 고온에 대한 저항력이 매우 높습니다.

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고급스럽고 내구성이 뛰어난 graphite-substrate을(를) 구매하시겠습니까? Semicorex는 확실히 좋은 선택입니다. 우리는 중국에서 가장 경쟁력 있는 graphite-substrate 제조업체 및 공급업체 중 하나로 알려져 있습니다. 대량 포장도 해 드립니다. 해당 지역의 실제 요구 사항을 충족하기 위해 일부 맞춤형 서비스가 필요할 수 있습니다. 웹 페이지의 연락처 정보를 통해 메시지를 남길 수 있습니다. 우리는 상담 및 협상을 위해 공장을 방문하는 신규 및 기존 고객을 진심으로 환영합니다.