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SiC 코팅된 에피택셜 반응기 배럴

SiC 코팅된 에피택셜 반응기 배럴

Semicorex SiC Coated Epitaxial Reactor Barrel은 고순도 SiC를 코팅한 최고급 흑연 제품입니다. 밀도와 열전도율이 뛰어나 LPE 공정에 사용하기에 이상적인 선택이며 부식성 및 고온 환경에서 뛰어난 열 분포 및 보호 기능을 제공합니다.

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제품 설명

반도체 제조와 관련하여 Semicorex SiC Coated Epitaxial Reactor Barrel은 우수한 성능과 탁월한 열 분산을 위한 선택입니다. 고순도 SiC로 코팅된 이 흑연 제품은 뛰어난 내식성 및 내열성을 제공하여 매번 신뢰할 수 있고 일관된 결과를 보장합니다.

Semicorex는 고객에게 고품질의 비용 효율적인 제품을 제공하는 데 중점을 둡니다. 당사의 SiC Coated Epitaxial Reactor Barrel은 가격 이점이 있으며 많은 유럽 및 미국 시장에 수출됩니다. 우리는 일관된 품질의 제품과 탁월한 고객 서비스를 제공하는 장기적인 파트너가 되는 것을 목표로 합니다.


SiC 코팅된 에피택셜 반응기 배럴의 매개변수

CVD-SIC 코팅의 주요 사양

SiC-CVD 속성

결정 구조

FCC β 단계

밀도

g/cm ³

3.21

경도

비커스 경도

2500

입자 크기

μm

2~10

화학적 순도

%

99.99995

열용량

J·kg-1·K-1

640

승화 온도

2700

쇠약한 힘

MPa(RT 4점)

415

영률

GPA (4pt 굽힘, 1300â)

430

열팽창(C.T.E)

10-6K-1

4.5

열 전도성

(W/mK)

300


SiC Coated Epitaxial Reactor Barrel의 특징

- 흑연 기판과 실리콘 카바이드 층 모두 밀도가 좋으며 고온 및 부식성 작업 환경에서 우수한 보호 역할을 할 수 있습니다.

- 단결정 성장에 사용되는 탄화 규소 코팅 서셉터는 표면 평탄도가 매우 높습니다.

- 흑연 기판과 실리콘 카바이드 층 사이의 열팽창 계수 차이를 줄이고 접착 강도를 효과적으로 향상시켜 균열 및 박리를 방지합니다.

- 흑연 기판과 실리콘 카바이드 층 모두 열전도율이 높고 열분산 특성이 우수합니다.

- 고융점, 고온 내산화성, 내식성.




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