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에피택셜 성장을 위한 SiC 코팅 RTP 캐리어 플레이트

에피택셜 성장을 위한 Semicorex SiC 코팅 RTP 캐리어 플레이트는 반도체 웨이퍼 처리 응용 분야를 위한 완벽한 솔루션입니다. 흑연, 세라믹 등의 표면에 MOCVD 가공된 고품질 탄소 흑연 서셉터와 석영 도가니를 갖춘 이 제품은 웨이퍼 핸들링 및 에피택셜 성장 처리에 이상적입니다. SiC 코팅 캐리어는 높은 열 전도성과 우수한 열 분포 특성을 보장하므로 RTA, RTP 또는 가혹한 화학 세척에 신뢰할 수 있는 선택입니다.

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RTP RTA SiC 코팅 캐리어

Semicorex는 중국 내 실리콘 카바이드 코팅 흑연 서셉터의 대규모 제조업체이자 공급업체입니다. 중국에서 높은 내열성과 내식성을 갖춘 에피택시 장비용으로 특별히 설계된 Semicorex 흑연 서셉터입니다. 당사의 RTP RTA SiC 코팅 캐리어는 가격 이점이 뛰어나며 많은 유럽 및 미국 시장을 포괄합니다. 우리는 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 기대하고 있습니다.

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MOCVD 에피택셜 성장을 위한 RTP 캐리어

MOCVD 에피택셜 성장을 위한 Semicorex RTP 캐리어는 에피택셜 성장 및 웨이퍼 핸들링 처리를 포함한 반도체 웨이퍼 처리 응용 분야에 이상적입니다. 탄소 흑연 서셉터 및 석영 도가니는 흑연, 세라믹 등의 표면에서 MOCVD로 가공됩니다. 당사의 제품은 가격 우위가 뛰어나며 많은 유럽 및 미국 시장을 포괄합니다. 우리는 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 기대하고 있습니다.

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ICP 에칭 캐리어 플레이트

Semicorex의 ICP 에칭 캐리어 플레이트는 까다로운 웨이퍼 핸들링 및 박막 증착 공정을 위한 완벽한 솔루션입니다. 당사 제품은 우수한 내열성 및 내부식성, 균일한 열 균일성 및 층류 가스 흐름 패턴을 제공합니다. 깨끗하고 매끄러운 표면을 갖춘 당사의 캐리어는 깨끗한 웨이퍼를 핸들링하는 데 적합합니다.

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ICP 에칭 공정용 SiC 플레이트

Semicorex의 ICP 에칭 프로세스용 SiC 플레이트는 박막 증착 및 웨이퍼 핸들링에서 고온 및 가혹한 화학 처리 요구 사항을 위한 완벽한 솔루션입니다. 당사 제품은 우수한 내열성과 균일한 열 균일성을 자랑하여 일관된 에피층 두께와 저항성을 보장합니다. 깨끗하고 매끄러운 표면을 갖춘 당사의 고순도 SiC 크리스탈 코팅은 깨끗한 웨이퍼에 대한 최적의 핸들링을 제공합니다.

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LPE 에피택셜 성장을 위한 SiC 코팅 배럴 서셉터

LPE 에피택셜 성장을 위한 Semicorex SiC 코팅 배럴 서셉터는 장기간에 걸쳐 일관되고 안정적인 성능을 제공하도록 설계된 고성능 제품입니다. 균일한 열 프로필, 층류 가스 흐름 패턴 및 오염 방지 기능을 통해 웨이퍼 칩의 고품질 에피택셜 레이어를 성장시키는 데 이상적인 선택입니다. 맞춤화 가능성과 비용 효율성으로 인해 시장에서 경쟁력이 매우 높은 제품입니다.

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고급스럽고 내구성이 뛰어난 graphite-susceptors을(를) 구매하시겠습니까? Semicorex는 확실히 좋은 선택입니다. 우리는 중국에서 가장 경쟁력 있는 graphite-susceptors 제조업체 및 공급업체 중 하나로 알려져 있습니다. 대량 포장도 해 드립니다. 해당 지역의 실제 요구 사항을 충족하기 위해 일부 맞춤형 서비스가 필요할 수 있습니다. 웹 페이지의 연락처 정보를 통해 메시지를 남길 수 있습니다. 우리는 상담 및 협상을 위해 공장을 방문하는 신규 및 기존 고객을 진심으로 환영합니다.